WAFER LIFTING APPARATUS OF PLASMA PROCESSING EQUIPMENT
PURPOSE: A plasma process apparatus having a lift pin with a weight detecting function is provided to recognize the weight value of a wafer and display an abnormal state when the recognized weight value is higher or lower than a reference value by installing a weight detecting unit capable of detect...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
12.05.2003
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Edition | 7 |
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Summary: | PURPOSE: A plasma process apparatus having a lift pin with a weight detecting function is provided to recognize the weight value of a wafer and display an abnormal state when the recognized weight value is higher or lower than a reference value by installing a weight detecting unit capable of detecting the weight of a wafer in the upper portion of a plurality of lift pins. CONSTITUTION: A closed chamber has predetermined volume. A wafer stage on which the wafer is settled is installed in the lower portion of the chamber. A lift plate is installed in the lower portion of the wafer stage, capable of moving up/down. The plurality of lift pins(31) move up/down the substrate(23), connected to the lift plate. The weight detecting unit(33) detects the weight of the substrate, installed in the upper portion of the lift pin.
본 발명은 무게감지 기능을 갖는 리프트 핀을 구비한 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로서, 소정의 용적을 갖는 밀폐된 챔버와; 상기 챔버의 하부에 설치되어 웨이퍼를 안착시키는 웨이퍼스테이지와; 상기 웨이퍼스테이지의 하부에 승·하강 가능하게 설치된 리프트플레이트와; 상기 리프트플레이트에 연결됨과 아울러 상기 기판을 승·하강시키는 복수의 리프트핀과; 상기 리프트핀의 상단에 설치되어 상기 기판의 무게를 감지하는 무게감지수단을 포함하고, 상술한 구성에 상기 무게감지수단에 의해 이상상태가 감지될 경우 그 이상상태를 알리는 에러표시수단을 추가로 구성한다. 상기 무게감지센서는 마이크로스위치, 스트레인게이지 중 어느 하나로 한다. 상술한 바와 같이 무게감지수단에 의해 웨이퍼의 무게값을 인식하도록 하고 그 인식된 무게값이 기준치보다 높거나 낮을 경우 이상상태임을 표시하도록 하여 웨이퍼가 웨이퍼스테이지로부터 떨어지거나 깨지고, 또는 복수 매의 웨이퍼가 겹쳐져서 안착되는 문제점을 해소시킬 수 있게 된다. 또한, 이상상태가 발생할 경우에도 일련의 이송과정을 계속 수행하여 연속적으로 웨이퍼가 손상되는 문제점을 해소시켜 웨이퍼의 손실을 줄임과 아울러 수율을 향상시킬 수 있게 된다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20010068265 |