Stacked chamber

• Main Author: SON, YEONG UNG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 06.03.2003
• Edition: 7
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

PURPOSE: A stack chamber is provided to improve productivity per a unit area by stacking vertically a plurality of single wafer chambers. CONSTITUTION: A stack chamber is formed by stacking a plurality of single wafer chambers(150). A gas injection hole, a gas exhaust hole(154), and a wafer loading hole(152) are formed at each sidewall of the single wafer chambers(150). A mobile line of the robot arm(125) is minimized by arranging vertically the wafer loading holes(152) when a wafer(113) is loaded into the single wafer chamber(150) by using a robot arm(125). The robot arm(125) loads the wafer(113) into the single wafer chamber(150) or unloads the wafer(113) from the single wafer chamber(150). The gas exhaust hole(154) is projected form the sidewall of the single wafer chamber(150). 본 발명에 따른 적층식 챔버는, 복수개의 매엽식 챔버가 수직방향으로 적층되고, 각각의 매엽식 챔버 측벽에는 기체 주입구, 기체 배출구 및 웨이퍼 장입구가 마련되며, 상기 웨이퍼 장입구들은 수직한 방향으로 일렬로 배열되도록 설치되는 것을 특징으로 한다. 여기서, 상기 기체 배출구는 상기 매엽식 챔버 측벽에서 수평한 방향으로 돌출된 후 아래방향으로 수직하게 절곡되도록 설치되고, 상기 매엽식 챔버에서 상기 기체 배출구가 돌출되는 부분은 수직한 방향으로 일렬로 배열되지 않도록 설치되는 것이 바람직하다. 본 발명에 의하면, 복수개의 매엽식 챔버를 수직 방향으로 적절히 적층하여 장비의 설치면적을 최소화함으로써 매엽식 챔버를 사용할 경우에 실제 생산공정에서 중요한 문제점으로 나타나는 단위면적당 생산량 저하를 극복할 수 있게 된다.