3 Novel Tertiary Alcohol Compounds Having an Alicyclic Structure

PURPOSE: Novel tertiary alcohol compounds are provided which are useful as monomers for the preparation of photoresist materials having high transparency and a great affinity for the substrate and hence suitable for use in photolithography using a light source comprising preferably light having a wa...

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Main Authors KINSHO TAKESHI, WATANABE TAKERU, HASEGAWA KOJI
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 04.07.2002
Edition7
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Summary:PURPOSE: Novel tertiary alcohol compounds are provided which are useful as monomers for the preparation of photoresist materials having high transparency and a great affinity for the substrate and hence suitable for use in photolithography using a light source comprising preferably light having a wavelength of 300 nm or less and more preferably light emitted from an ArF excimer laser. CONSTITUTION: The tertiary alcohols compounds are represented by the following general formula(1), wherein R1 and R2 each independently represents a straight-chain, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, in which some or all of the hydrogen atoms on the constituent carbon atoms may be replaced by a halogen atom or halogen atoms, or R1 and R2 may be joined together to form an aliphatic hydrocarbon ring; Z represents a straight-chain, branched or cyclic divalent organic group having 2 to 10 carbon atoms; and k is 0 or 1. 본 발명은 바람직하게는 300 nm 이하의 파장, 특히 바람직하게는 ArF 엑시머 레이저광을 광원으로 한 포토리소그래피에 있어서, 투명성과 기판과의 친화성이 우수한 포토레지스트 재료 제조용 단량체로서 유용한 신규 3차 알콜 화합물을 제공한다. 즉, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 3차 알콜 화합물을 제공한다. 식 중, R, R는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 알킬기를 나타내고, 구성 탄소 원자 상의 수소 원자 중 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환될 수도 있으며, 또한 R, R는 서로 결합하여 지방족 탄화수소환을 형성할 수도 있고, Z는 탄소수 2 내지 10의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 2가의 유기기를 나타내며, k는 0 또는 1이다.
Bibliography:Application Number: KR20010084092