Projection exposure device

• Main Authors: MIESNER HANS-JOACHIM, ANTONI MARTIN, DRODOFSKY ULRICH, DIECKMANN NILS
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 27.03.2002
• Edition: 7
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TESTING; TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES ORSTRUCTURES; TESTING STRUCTURES OR APPARATUS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR

PURPOSE: A projection exposure device, in particular for micro-lithography is provided so that the illumination angle distribution can be calculated and brought near to the desired distribution. CONSTITUTION: A projection exposure device(1), in particular for micro-lithography, serves to produce an image of an object(2) in an image plane(11) positioned in an object plane(10). For this reason the projection exposure device(1) has a radiation source(4) emitting projection radiation(5). Illumination optics(6) are positioned between the radiation source(4) and the object plane(10) and projection optics(8) are positioned between the object plane(10) and the image plane(11). A detection device(30) is provided to measure the illumination angle distribution of the projection radiation(5) in a field plane(10). This communicates via at least one control device(34,18) with at least one manipulator(20,45,47). The latter serves to move at least one optical component(7,41) within the projection ray path(5,9). The illumination angle distribution changes as a result of the controlled movement of the optical component(7,41). 특히 미세 전사용 투사 노출 장치(1)는 객체면(10)에 구성된 영상면(11)에 객체(2)의 영상을 형성하도록 기능을 수행한다. 상기의 이유로 투사 노출 장치(1)는 투사 방사(5)를 방출하는 방사원(4)을 가진다. 조명 광학장치(6)는 방사원(4) 및 객체면(10) 사이에 구성되고, 투사 광학장치(8)는 객체면(10) 및 영상면(11) 사이에 구성된다. 필드면(10)에서 투사 방사(5)의 조명각 분포를 측정하도록 검출 장치(30)가 구성된다. 상기 검출 장치(30)는 하나 이상의 제어 장치(34,18)를 통해 하나 이상의 조작기(20,45,47)와 소통된다. 상기 하나 이상의 조작기(20,45,47)는 투사 광선 경로(5,9) 내에서 하나 이상의 광학 부품(7,41)을 이동시킨다. 조명각 분포는 광학 부품(7,41)의 제어된 이동으로 인해 변화된다. 따라서 상기는 측정 결과에 따라 조절될 수 있고, 예를 들어 객체 구조에 적용될 수 있다.