Method od Selecting Environmental Data Feature Parameter for Controlling Particle of Semiconductor Clean Room

• Main Authors: CHONG IL YOUNG, CHOI CER HEE, JUNG SANG DUCK
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 29.12.2022
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CALCULATING; COMPUTING; COUNTING; ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to a method for selecting an environmental data feature parameter required for controlling a particle of a semiconductor clean room, capable of accurately, rapidly, and efficiently controlling the minimization of particle concentration in a clean room. The method for selecting an environmental data feature parameter required for controlling a particle of a semiconductor clean room includes: a step of collecting first environment data to N^th environment data about a semiconductor clean room environment and collecting particle data on particle concentration in the semiconductor clean room; a step of obtaining a target parameter from the particle data and obtaining a first feature parameter to an N^th feature parameter corresponding to each environment data from the first environment data to the N^th environment data; a step of calculating a correlation coefficient between a feature parameter and the object parameter and calculating the correlation coefficient between K feature parameters, about each of the first feature parameter to the N^th feature parameter; a step of calculating the influence on the target parameter of the K^th feature parameter by using the correlation coefficient between the K^th feature parameter and the target parameter and the correlation coefficient between the K^th feature parameters, about each of the first feature parameter to the N^th feature parameter; and a step of setting a ranking between the calculated influence of the target parameter in the first feature parameter and the influence of the target parameter in the N^th feature parameter and selecting M feature parameters with the influence of the ranking or higher selected among the first feature parameter to the N^th feature parameter. 본 발명의 반도체 클린룸 환경제어장치의 파티클 제어에 필요한 환경데이터 특성변수 선정방법은, 반도체 클린룸의 환경에 대한 제1 환경데이터 내지 제N 환경데이터를 수집하고, 상기 반도체 클린룸의 파티클 농도에 대한 파티클 데이터를 수집하는 단계; 상기 파티클 데이터로부터 목적변수를 획득하고, 상기 제1 환경데이터 내지 제N 환경데이터로부터 각 환경데이터에 대응하는 제1 특성변수 내지 제N 특성변수를 획득하는 단계; 상기 제1 특성변수 내지 제N 특성변수 각각에 대하여, 제K 특성변수와 상기 목적변수 간의 상관계수를 연산하고, 상기 제K 특성변수 간의 상관계수를 연산하는 단계; 상기 제1 특성변수 내지 제N 특성변수 각각에 대하여, 상기 제K 특성변수와 상기 목적변수 간의 상관계수 및 상기 제K 특성변수 간의 상관계수를 이용하여 상기 제K 특성변수의 상기 목적변수에 대한 영향도를 연산하는 단계; 및 상기 연산된 제1 특성변수의 목적변수 영향도 내지 제N 특성변수의 목적변수 영향도 간의 순위를 설정하고, 상기 제1 특성변수 내지 제N 특성변수 중에서 선정된 순위 이상의 영향도를 갖는 M개의 특성변수를 선정하는 단계를 포함한다.