APPARATUS FOR MEASURING PARTICLE AND METHOD FOR MEASURING PARTICLE

• Main Authors: KO JUHEE, LEE JUNGCHUL, KIM TAE YEONG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 23.11.2022
• Subjects: CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; PHYSICS; TESTING; TRANSPORTING

The present invention relates to an apparatus for measuring particles and a method for measuring particles. Specifically, according to one embodiment of the present invention, the apparatus for measuring particles can be provided, wherein the apparatus comprises: a wafer; a cavity channel which comprises a resonant channel capable of resonant movements for the wafer and an optical channel and is placed at a predetermined depth from a top surface of the wafer and provides a pathway having fluids containing a predetermined particles gone therethrough; a sensing module which irradiates laser beam bunch to the resonant channel and the optical channel and receives the laser beam bunch reflected from the resonant channel and the optical channel; and a controller which derives resonance frequencies of the resonant channel and optical properties of the particles flowing within the optical channel based on the laser beam bunch received in the sensing module and detects the particles. The wafer comprises: an irradiation space which irradiates the laser beam bunch to the resonant channel and the optical channel from the outside of the wafer; and a communication hole which has at least part thereof open upwardly and is communicated with the cavity channel. The purpose of the present invention is to provide an apparatus for measuring particles which can measure mass and optical properties of virus particles in one apparatus. 본 발명은 입자 측정장치 및 입자 측정방법에 관한 것이다. 구체적으로 본 발명의 일 실시예에 따르면, 웨이퍼; 상기 웨이퍼에 대하여 공진 운동 가능하도록 구성되는 공진채널, 및 광학채널을 포함하며, 상기 웨이퍼의 상면으로부터 소정 깊이에 배치되고, 소정의 입자를 포함하는 유체가 유동하기 위한 통로를 제공하는 캐비티채널; 상기 공진채널 및 상기 광학채널에 레이저빔 다발을 조사하고, 상기 공진채널 및 상기 광학채널에서 반사된 상기 레이저빔 다발을 수광하는 센싱모듈; 및 상기 센싱모듈에 수광된 상기 레이저빔 다발에 기초하여 상기 공진채널의 공진주파수, 및 상기 광학채널이 내에 유동하는 상기 입자의 광학성질을 도출함으로써 상기 입자를 검출하는 컨트롤러를 포함하고, 상기 웨이퍼에는, 상기 웨이퍼의 외부에서 상기 공진채널 및 상기 광학채널에 상기 레이저빔 다발이 조사되도록 하는 조사공간, 및 적어도 일부가 상방으로 개구된 형상을 갖고, 상기 캐비티채널과 연통하는 연통홀이 형성되는, 입자 측정장치가 제공될 수 있다.