Gas Supply Device and Gas Supply Method

• Main Authors: KIM SUNG GEUN, WOO YOUNG JE
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 07.03.2022
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; BLASTING; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED,LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; HEATING; LIGHTING; MECHANICAL ENGINEERING; SEMICONDUCTOR DEVICES; STORING OF DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS; VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED ORSOLIDIFIED GASES; WEAPONS

The present invention relates to a gas supply apparatus and a gas supply method. The gas supply apparatus according to the present invention comprises a control unit in which a calibration process is set for calibrating a gas analyzing unit which measures a concentration of a set target component in an introduced gas. The calibration process includes a zero point calibration process and a range calibration process. In the control unit, a measured value x of the gas analyzing unit when any analysis target gas is introduced into the gas analyzing unit, is substituted into a concentration calibration equation derived through the zero calibration process and the range calibration process. Then, a target gas concentration value C(x), which is the concentration of the target component in an analysis target gas, is calculated. An objective of the present invention is to provide the gas supply apparatus in which a mixed gas of a predetermined concentration is stably supplied, and the gas supply method. 본 발명은 가스 공급 장치와 가스 공급 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 가스 공급 장치는, 유입된 가스 중 설정된 표적성분의 농도를 측정하는 가스분석부를 교정하기 위한 교정 프로세스가 설정된 제어부;를 포함하되, 상기 교정 프로세스는 영점교정 프로세스와 범위교정 프로세스를 포함하여 구성되고, 상기 제어부는 상기 가스분석부에 임의의 분석 대상 가스가 유입된 경우, 이때의 상기 가스분석부의 측정값 x를 상기 영점교정 프로세스 및 상기 범위교정 프로세스를 통해 도출된 농도 교정식에 대입하여 상기 분석 대상 가스 중 상기 표적성분의 농도인 대상가스 농도값 C(x)를 산출하도록 이루어진다.