HIGH FREQUENCY POWER DEVICE FOR DRY ETCHING EQUIPMENT WITH MULTIPLE FREQUENCIES

• Main Authors: KIM SEOK AN, SONG YOUNG JIN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 05.03.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to a high frequency power supply device for dry etching equipment using multiple frequencies, comprising: a source generator; a bias generator; a public matcher; and a filter box. According to the present invention, a stable matching operation can be performed and, in particular, there is an effect of enabling uniform etching for a large-sized glass substrate. 본 발명은 다중 주파수를 사용하는 건식 식각 장비를 위한 고주파 전원 장치에 관한 것으로서, 접지 측에 연결되는 적어도 하나의 접지 전극과, 상기 접지 전극에 대향 배치되며 소스 전원과 바이어스 전원이 인가되는 적어도 하나의 주 전극을 구비하며, 상기 접지 전극과 상기 주 전극 사이에 형성되는 플라즈마에 의해 처리 대상물을 플라즈마 처리하는 플라즈마 챔버에 연결되며, 상기 플라즈마 챔버에 고주파 전원을 공급하기 위한 고주파 전원 장치에 있어서, 제1 주파수를 갖는 고주파 전원을 발생시키는 소스 제너레이터; 상기 제1 주파수에 비해 낮은 제2 주파수를 갖는 고주파 전원을 발생시키는 바이어스 제너레이터; 상기 소스 제너레이터의 출력 측과 상기 바이어스 제너레이터의 출력 측에 공통으로 연결되며, 상기 소스 제너레이터 및 상기 바이어스 제너레이터의 출력 임피던스와 상기 플라즈마 챔버의 부하 임피던스를 매칭하는 공용 매처; 및 상기 바이어스 제너레이터의 출력단과 상기 공용 매처의 입력단 사이에 연결되며 상기 제2 주파수 이외의 주파수 성분이 유입되는 것을 차단하고, 상기 제2 주파수에 대한 2고조파 이상의 성분들에 대해 -20dB 이하의 전달 특성을 가지는 필터 박스를 포함한다.본 발명에 따르면, 바이어스 제너레이터와 공용 매처 사이에 자기 주파수 이외의 주파수 유입을 차단할 수 있는 전달 특성을 갖는 필터 박스를 설치함으로써, 소스 제너레이터의 사용 주파수와의 간섭 현상을 억제하고 자기 주파수에 대한 2고조파 이상의 성분들을 소거함으로써 안정된 매칭 동작을 수행할 수 있으며 특히 대형 유리 기판에 대해 균일한 에칭을 가능하게 하는 효과가 있다.