residual gas exhaust device

• Main Authors: PARK YOUNG HEE, YOO BYUNG JU
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 10.12.2018
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; BLASTING; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVEFUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; HEATING; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; LIGHTING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL; MECHANICAL ENGINEERING; PIPES; SEMICONDUCTOR DEVICES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; THERMAL INSULATION IN GENERAL; WEAPONS

The present invention relates to a technology to safely exhaust residual gas in a pipe to a pipe having a scrubber therein in a situation of replacing configuration around the pipe connected to the scrubber through a processing chamber and a vacuum pump in an exhaust system, in which the exhaust gas generated from the processing chamber moves to the scrubber through the vacuum pump and, more specifically, to a technology of purging the residual gas in a first upper pipe, which is the upper part of the first pipe with respect to a gate valve installed in the first pipe connecting the processing chamber and the vacuum pump, and the residual gas in the first lower pipe, which is the lower part of the first pipe, with a dilution gas provided from the outside to bypass the purged gas to a second pipe connecting the vacuum pump and the scrubber. According to the present invention, the residual gas exhaust device comprises: the lower part of the first pipe; the vacuum pump; a flushing pipe extended from a gas supply tank; and a residual gas bypass pipe. The second pipe includes the lower part of the first pipe, the flushing pipe extended from the gas supply tank, and a cover to cover the second pipe. Accordingly, provided is an advantage of preventing a part of the residual gas, which is exposed when replacing the configuration around the first pipe, from being diffused to the outside. 본 발명은 공정챔버로부터 발생된 배기가스가 진공펌프를 거쳐 스크러버로 이동하는 배기시스템에서 공정챔버와 진공펌프를 거쳐 스크러버로 이동하는 배관 주변의 구성을 교체해야 하는 상황에서 그 배관 내부의 잔류가스를 스크러버가 위치하는 배관으로 안전하게 배기시키는 기술로서, 공정챔버와 진공펌프를 잇는 제 1 배관에 장착된 게이트밸브를 기준으로 제 1 배관의 상부인 제 1 상부배관 내부의 잔류가스와 제 1 배관의 하부인 제 1 하부배관 내부의 잔류가스를 외부로부터 제공되는 희석용가스로 퍼지시켜 진공펌프와 스크러버를 잇는 제 2 배관으로 바이패스시키는 기술에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 제 1 배관의 하부, 진공펌프, 가스공급탱크로부터 연장되는 플러싱 배관, 잔류가스 바이패스관, 제 2 배관은 외부와 차폐되도록 제 1 배관의 하부, 진공펌프, 가스공급탱크로부터 연장되는 플러싱 배관, 잔류가스 바이패스관, 제 2 배관을 감싸는 커버를 구비함에 따라 제 1 배관 주변의 구성을 교체할 때 일부 노출되는 잔류가스가 외부로 확산되는 것을 방지하는 장점이 있다.