3 THREE-DIMENSIONAL THIN-FILM SANDWICH STRUCTURE BASED ON PHOTO LITHOGRAPHY AND FABRICATION METHOD THEREOF

• Main Authors: CHOI, DAE HAN, LEE, JEONG WOO, LEE, MIN GEUN, HAN, SEUNG CHEUL, CHOI, JUNG MYUNG, KANG, KI JU
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 16.02.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to a three-dimensional thin film structure fabricated using photolithography and a fabrication method thereof. The structure comprises a microlattice-shaped frame member and a sheet-shaped sheet member, wherein the sheet member is integrated on both side surfaces of the frame member, and the frame member is made of a hard thin film in the shape of a hollow plaid, whereas the sheet member is made of a single hard thin film. The fabrication method comprises the steps of: (a) emitting UV rays in a liquid photosensitive resin from an out-of-plane direction and removing the residual liquid photosensitive resin to form a microlattice-shaped solid resin structure; (b) forming a solid resin sheet member on opposing upper and lower surfaces of the solid resin structure to form an integrated solid resin sandwich structure; (c) forming a hard thin film on the surface of the solid resin sandwich structure; and (d) removing a part of the hard thin film to expose and then remove an internal solid resin. The extremely low-density three-dimensional thin film structure according to the present invention has a thin film plate on the outermost surface of the hollow plaid-shaped structure, and thus has high strength and rigidity relative to weight, and is also advantageous in terms of enlargement of product size and mass-productivity by modifying and improving conventional microlattice fabrication methods. 본 발명은 광 리소그래피를 이용한 3차원 박막 구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다. 상기 구조체는, 마이크로격자 형태의 심재와 시트 형태의 면재가 상기 심재의 상하 면 쌍에 일체로 형성되며, 상기 심재는 중공격자형의 경질 박막으로 상기 면재는 단일의 경질 박막으로 이루어진 것을 특징으로 하고, (a) 액상 감광성수지에 대해 면외 방향에서 소정 패턴에 따라 자외선을 조사한 후 잔여의 액상 감광성수지를 제거하여 마이크로격자 형태의 고상수지 구조체를 형성하는 단계; (b) 상기 고상수지 구조체의 대향되는 상하 면 쌍에 고상수지 면재를 형성하여 일체로 고상수지 샌드위치 구조체를 형성하는 단계; (c) 상기 고상수지 샌드위치 구조체의 표면에 경질 박막을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 경질 박막의 일부를 제거하여 내부의 고상수지를 노출시킨 후 제거하는 단계;를 통해 제조된다. 본 발명에 따른 극저밀도 3차원 박막 샌드위치 구조체는, 중공격자를 갖는 구조체의 최외면에 박막의 판이 구비되어 중량 대비 높은 강도와 강성을 가지며, 종래 마이크로격자(microlattice) 제조 방법을 개량 보완함으로써 제품 크기의 대형화 및 대량 생산성에 있어 유리하다.