APPARATUS FOR DEPOSITING THIN-FILM

• Main Authors: AHN, WOO JUNG, KIM, JUNG HWAN, PAHK, HEUI JAE, KIM, SEONG RYONG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 07.02.2017
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to an apparatus for depositing a thin film. Productivity can be improved by reducing a failure rate of a substrate by including a mask, a first plate, and a second plate. The quality of the substrate can be improved by easily controlling parallelism of a configuration to pressurize the substrate in a deposition process. Also, production processes are simplified and production costs are saved by obtaining high position reproducibility in the configuration to pressurize the substrate in the deposition process. 본 발명은 박막 증착장치에 관한 것으로, 마스크; 제1 플레이트; 및 제2 플레이트; 를 포함하여, 기판의 불량률을 감소시켜 생산성을 향상시킬 수 있고, 증착 공정시 기판을 가압하는 구성의 평행도를 쉽게 조절하여 기판의 품질 향상을 기대할 수 있을 뿐만 아니라 증착 공정시 기판을 가압하는 구성이 높은 위치 재현성을 갖게 되어 생산 공정을 단순화하고 생산비용을 절감할 수 있는 것을 특징으로 한다.