A METHOD FOR MEASURING A FOCUS OF AN ILLUMINATION APPARATUS AND A MASK USING IN THE METHOD

• Main Author: PARK, JUNGUL
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 01.09.1999
• Edition: 6
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

본 발명은 노광장치의 촛점 측정방법 및 이에 사용하는 마스크에 관해 개시한다. 본 발명에 의한 노광장치의 촛점측정방법에서는 광 투과창이 콘덴서 렌즈의 광축에 대해 비 대칭적으로 형성되어 있는 따라서 비 대칭적으로 광을 입사시키는 어퍼쳐와 상기 어퍼쳐로 부터 입사되는 광을 회절시키는 서로 다른 피치를 갖는 두개의 패턴군을 구비하는 마스크를 사용하여 노광장치의 최적 촛점을 측정한다. 상기 마스크에 새겨진 두개의 패턴군의 중심이 되는 패턴 상의 상대적인 이동을 측정함으로써 노광장치의 최적 촛점을 측정할 수 있다. 이러한 방법은 별도의 특별한 장비를 요하지 않으며 PSM과 같은 제작공정이 복잡한 별도의 마스크도 필요로 하지 않으므로 비용을 낮추면서 쉬운 측정방법을 제공한다.