PROCESS FOR A CONTINUOUS INDUSTRIAL PREPARATION OF AN AQUEOUS SOLUTION OF GLYOXYLIC ACID

본 발명은 5-6 중량% 사이의 염산 및 10 중량% 이상의 질산을 포함하는 반응매체 내에 글리옥살 1몰당 0.80±0.02몰의 질산 및 0.70±0.05몰의 염산을 연속적으로 사용하여 산화시키는 것이 특징인 염산 존재하에 글리옥살 수용액을 질산 산화시켜 글리옥살산 수용액을 제조하는 방법을 개시한다. Continuous manufacturing process for an aqueous solution of glyoxylic acid by nitric oxidation of an aqueous solution of glyoxal ca...

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Main Authors ALARCON, JEAN-MICHEL, SCHOUTEETEN, ALAIN
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 15.01.1999
Edition6
Subjects
ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
CHEMISTRY
METALLURGY
ORGANIC CHEMISTRY
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Summary:본 발명은 5-6 중량% 사이의 염산 및 10 중량% 이상의 질산을 포함하는 반응매체 내에 글리옥살 1몰당 0.80±0.02몰의 질산 및 0.70±0.05몰의 염산을 연속적으로 사용하여 산화시키는 것이 특징인 염산 존재하에 글리옥살 수용액을 질산 산화시켜 글리옥살산 수용액을 제조하는 방법을 개시한다. Continuous manufacturing process for an aqueous solution of glyoxylic acid by nitric oxidation of an aqueous solution of glyoxal carried out in the presence of hydrochloric acid in which the oxidation is effected continuously using 0.80+/-0.2 mole of nitric acid and 0.70+/-0.05 mole of hydrochloric acid per mole of glyoxal in a reaction medium having a concentration by weight between 5 and 6% of hydrochloric acid and higher than 10% of nitric acid.
Bibliography:Application Number: KR19900018456