PHOTOMASK REPAIR DEVICE AND PHOTOMASK REPAIR METHOD

• Main Author: YAMADA KEIZO
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 12.03.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

PURPOSE: To provide a photomask repair device and a photomask repair method for automatically repairing a photomask by ending repair processing when a secondary electron profile coincides with a target secondary electron profile.CONSTITUTION: A photomask repair device includes: a target secondary electron profile for a defect-free shape; a secondary electron profile to be repaired; gas injection means for jetting gas for etching or deposition to a defective portion of a photomask, and irradiating the defective portion with a primary electron beam to perform etching or deposition; and repairing means for repairing the defect by performing etching or deposition, by comparing the target secondary electron profile with the secondary electron profile to be repaired, jetting gas for etching or deposition from the gas injection means so that the latter matches the former, radiating a primary electron beam, and performing etching or deposition.SELECTED DRAWING: Figure 1 【目的】本発明は、フォトマスク修復装置およびフォトマスク修復方法に関し、２次電子プロファイルが目標２次電子プロファイルに合致したときに修復処理を終了し、自動修復することを目的とする。【構成】欠陥のない形状に対する目標２次電子プロファイルと、修復対象の２次電子プロファイルと、フォトマスクの欠陥のある部分に、エッチング用あるいはデポジション用のガスを噴射すると共に１次電子ビームを欠陥のある部分に照射してエッチングあるいはデポジションを行う、当該ガスを噴射するガス噴射手段と、目標２次電子プロファイルと修復対象の２次電子プロファイルとを比較し、後者が前者に一致するように、ガス噴射手段からエッチング用あるいはデポジション用のガスを噴射すると共に１次電子ビームを照射し、エッチングあるいはデポジションを行って欠陥を修復する修復手段とを備える。【選択図】 図１