ELECTRON BEAM INSPECTION SYSTEM AND METHOD

To provide a system and a method that can eliminate unnecessary crosstalk and electromagnetic interference (EMI) problems.SOLUTION: An inspection system is provided with an electron beam source configured to generate one or more primary electron beams. The inspection system is provided with an elect...

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Main Authors FIELDEN JOHN, LAWRENCE P MURAY, ALAN D BRODIE
Format Patent
LanguageEnglish
Japanese
Published 21.02.2024
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Summary:To provide a system and a method that can eliminate unnecessary crosstalk and electromagnetic interference (EMI) problems.SOLUTION: An inspection system is provided with an electron beam source configured to generate one or more primary electron beams. The inspection system is provided with an electron optical column having a pair of electron optical elements configured to direct the one or more primary electron beams onto a specimen, a scintillator substrate which is further provided with a detection assembly, and configured to collect electrons emitted from the specimen and generate optical radiation in accordance with the collected electrons, one or more light guides, one or more reflective surfaces which are configured to receive the optical radiation and direct the optical radiation along the one or more light guides, and one or more detectors configured to receive the optical radiation from the light guides.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】無用なクロストーク及び電磁干渉(EMI)問題を取り除けるシステム及び方法を提供する。【解決手段】本検査システムには、1本又は複数本の一次電子ビームを生成するよう構成された電子ビーム源を設ける。本検査システムには、その1本又は複数本の一次電子ビームを標本に差し向けるよう構成された一組の電子光学素子を有する、電子光学カラムを設ける。更に検出アセンブリを設け、その標本から発せられる電子を収集するよう構成されその収集電子に応じ光学輻射を生成するよう構成されているシンチレータ基板と、一つ又は複数の導光器と、その光学輻射を受光しその光学輻射をその一つ又は複数の導光器沿いに差し向けるよう構成された一つ又は複数の反射面と、その導光器からその光学輻射を受光するよう構成された一つ又は複数の検出器とを備える。【選択図】図1
Bibliography:Application Number: JP20230211926