抗体関連型拒絶反応を処置するための方法
本発明は、対象において抗体関連型拒絶反応を処置する方法であって、以下の工程:(a)1回分またはそれ以上のiv用量のC1-INHを静脈内投与する工程、(b)少なくとも10回分のsc用量のC1-INHを数週間にわたって皮下投与し、各週に少なくとも1回分のsc用量が投与される工程を含むスケジュールに従って、対象にC1-INHを投与することを含む、方法に関する。本発明はさらに、移植レシピエントにおいて抗体関連型拒絶反応を処置する方法であって、C1-INHを少なくとも10週間にわたって皮下投与することを含み、各週に少なくとも1回分のsc用量が投与される、方法に関する。【選択図】図1 The invent...
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Format | Patent |
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Language | Japanese |
Published |
07.12.2023
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Summary: | 本発明は、対象において抗体関連型拒絶反応を処置する方法であって、以下の工程:(a)1回分またはそれ以上のiv用量のC1-INHを静脈内投与する工程、(b)少なくとも10回分のsc用量のC1-INHを数週間にわたって皮下投与し、各週に少なくとも1回分のsc用量が投与される工程を含むスケジュールに従って、対象にC1-INHを投与することを含む、方法に関する。本発明はさらに、移植レシピエントにおいて抗体関連型拒絶反応を処置する方法であって、C1-INHを少なくとも10週間にわたって皮下投与することを含み、各週に少なくとも1回分のsc用量が投与される、方法に関する。【選択図】図1
The invention relates to methods of treating antibody-mediated rejection in a subject comprising administering C1-INH to the subject according to a schedule with the following steps: (a) intravenously administering one or more iv-doses of C1-INH, (b) subcutaneously administering at least 10 sc-doses of C1-INH over several weeks, wherein each week at least one sc-dose is administered. The invention further relates to a method of treating antibody-mediated rejection in a transplant recipient comprising subcutaneously administering C1-INH over at least 10 weeks, wherein each week at least one sc-dose is administered. |
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Bibliography: | Application Number: JP20230530546 |