METHOD FOR MANUFACTURING FUNCTIONAL NAIL POLISH CONTAINING HOLLOW FILLER AND POROUS FILLER

To provide a method for manufacturing a nail polish with improved physical properties of a base coating agent and a top coating agent, plasticity adapted to the curved form of the nail, physical abrasion resistance to friction, and heat resistance by preventing thermal deformation in a thermal envir...

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Main Author KIM YOUNG SOO
Format Patent
LanguageEnglish
Japanese
Published 07.12.2023
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Summary:To provide a method for manufacturing a nail polish with improved physical properties of a base coating agent and a top coating agent, plasticity adapted to the curved form of the nail, physical abrasion resistance to friction, and heat resistance by preventing thermal deformation in a thermal environment, and the like, in nail polish consisting of an organic polymer base coat layer and top coat layer.SOLUTION: A method for manufacturing a nail polish consisting of an organic polymer base coat layer and top coat layer, includes the steps of: adding a filler consisting of hollow fine particles of inorganic silica-based glass bubbles surface-modified with 3-(2-amino ethyl amino)-propyltrimethoxysilane (APTMS) to a base coating agent; and adding a porous filler having cavities made of an inorganic ceramic-based organic-inorganic hybrid to a top coating agent.SELECTED DRAWING: Figure 4 【課題】有機質高分子のベースコート層とトップコート層からなるネイルポリッシュにおいて、ベースコート剤及びトップコート剤の物性が向上し、ネイルの湾曲した形態に適応される可塑性、摩擦に対する物理的耐磨耗性、熱的環境における熱的変形が防止され、耐熱性等が向上した、ネイルポリッシュの製法を提供する。【解決手段】有機質高分子のベースコート層とトップコート層からなるネイルポリッシュの製法であって、ベースコート剤に、3-(2-アミノメチルアミノ)-プロピルトリメトキシシラン(APTMS)により表面改質処理された無機質シリカ系の内部が中空であるグラスバブルの微粒子からなるフィラーを添加する工程、トップコート剤に、無機質セラミック系の有機-無機混成体からなる洞孔を有する多孔性のフィラーを添加する工程、を含む製法である。【選択図】図4
Bibliography:Application Number: JP20220085235