VENT ARRANGEMENT FOR RESPIRATORY MASK

To provide a gas washout vent arrangement which allows adequate venting of carbon dioxide while permitting efficient air delivery to a patient.SOLUTION: A control system provides automated control of gas washout of a patient interface, such as a mask or nasal prongs. A gas washout vent assembly 60 o...

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Main Authors DION CHARLES CHEWE MARTIN, ALEKSANDR S NAGORNY, JAMES WILLIAM CHARLES VANDYKE, ROGER MERVYN LLOYD FOOTE, LANCE STEVEN COHEN, JUSTIN JOHN FORMICA, MUDITHA PRADEEP DANTANARAYANA, STEVEN PAUL FARRUGIA, RONALD JAMES HUBY, JOSEPH M SAMPIETRO, JEFFREY PETER ARMITSTEAD, TANG ZHUO RAN, DAVID BRENT SEARS, DAMIEN JULIAN MAZZONE
Format Patent
LanguageEnglish
Japanese
Published 20.09.2023
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Summary:To provide a gas washout vent arrangement which allows adequate venting of carbon dioxide while permitting efficient air delivery to a patient.SOLUTION: A control system provides automated control of gas washout of a patient interface, such as a mask or nasal prongs. A gas washout vent assembly 60 of the system includes a variable exhaust area, or a variable exhaust area defined by a conduit having a variable gas flow channel. The vent assembly is of nested structures each having an open passage consisting of overlapping apertures. The vent assembly is attached to substantial vicinity of the patient interface, or accompanies the patient interface. An actuator of the assembly manipulates an aperture of the vent assembly. The actuator is controlled by a controller to change the exhaust area of the vent assembly based on various procedures.SELECTED DRAWING: Figure 2A.2B.2C 【課題】患者への十分な空気送達を可能にしながら、二酸化炭素の十分な換気を可能にするガス洗い流しベント装置を提供する。【解決手段】制御システムは、患者インターフェイス、例えば、マスクまたは鼻プロングのガス洗い流しの自動制御をもたらすものである。システムのガス洗い流しベントアセンブリ60は、可変排気面積、または可変ガス流路を有する導管によって画定される可変排気面積を備える。ベントアセンブリは、入れ子になった構造体であり、構造体の各々は、重なり合う開口からなる開通路を有している。ベントアセンブリは、患者インターフェイスの実質的に近傍に取り付けられるか、患者インターフェイスに付随的に設けられる。アセンブリのアクチュエータが、ベントアセンブリの開口を操作するようになっている。アクチュエータは、種々の手順に基づいて、制御装置によって、ベントアセンブリの排気面積を変化させるように制御される。【選択図】図2A.2B.2C
Bibliography:Application Number: JP20230099901