PIEZOELECTRIC DEVICE

• Main Authors: NIWA RYOSUKE, IKEUCHI SHINSUKE, SAWAMURA MAKOTO
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 28.07.2023
• Subjects: BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY; ELECTRICITY; IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS

To provide a piezoelectric device which allows accurate and clean formation of a dug part for placing a pad electrode without using a complicated process.SOLUTION: A piezoelectric device 101 comprises: a base part 10 provided with a first opening 9; and a vibration layer 12 disposed on the base part 10. The vibration layer 12, including a fixed part 41 and a membrane part 42, includes: a lower electrode layer 3 connected to the base part 10; an etching stop layer 21 disposed on the lower electrode layer 3; a piezoelectric layer 4 disposed on the etching stop layer 21; and an upper electrode layer 5 disposed on the piezoelectric layer 4. In a region part of the membrane part 42, the piezoelectric layer 4 is sandwiched between the upper electrode layer 5 and the lower electrode layer 3. The piezoelectric device 101 further comprises: a first pad electrode 31 disposed on the upper electrode layer 5; and a second pad electrode 32 disposed on the lower electrode layer 3 not via the piezoelectric layer 4 and the etching stop layer 21.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】複雑な工程を用いることなく、精度良く清浄な状態でパッド電極設置のための掘込み部を形成する圧電デバイスを提供する。【解決手段】圧電デバイス１０１は、第１開口部９が設けられた基部１０と、基部１０の上側に配置された振動層１２と、を備える。固定部４１と、メンブレン部４２と、を含む振動層１２は、基部１０に接続された下部電極層３と、下部電極層３の上側に配置されたエッチングストップ層２１と、エッチングストップ層２１の上側に配置された圧電層４と、圧電層４の上側に配置された上部電極層５と、を含む。メンブレン部４２の少なくとも一部の領域において、上部電極層５と下部電極層３とで、圧電層４を挟み込んでいる。圧電デバイス１０１はさらに、上部電極層５の上側に配置された第１パッド電極３１と、圧電層４及びエッチングストップ層２１を介さずに下部電極層３の上側に配置された第２パッド電極３２と、を備える。【選択図】図１