DOCKING STATIONS FOR TRANSCATHETER VALVES

To provide transcatheter implantable device frames, and docking stations or docking devices for transcatheter implantable devices.SOLUTION: Docking stations for transcatheter valves are described. The docking stations can include an expandable frame, at least one sealing portion, and a valve seat. T...

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Main Authors ADI CARMI, EASON MICHAEL ABBOTT, MICHAEL G VALDEZ, CAO HENGCHU, SCHNEIDER RALPH, MICHAEL D FRANKLIN, ASSAF BACH, EITAN ATIAS, NOA AXELROD, ERAN GOLDBERG, OFIR WITZMAN, MOHAMMAD JAFARI, TOMER SAAR, DAVID MAIMON, ARIE TYLIS, AMIR BLUMENFELD, JOHN J DESROSIERS, DANIEL JAMES MURRAY, ANATOLY DVORSKY, LIRON TAYEB, DUSTIN P ARMER
Format Patent
LanguageEnglish
Japanese
Published 06.07.2023
Subjects
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Summary:To provide transcatheter implantable device frames, and docking stations or docking devices for transcatheter implantable devices.SOLUTION: Docking stations for transcatheter valves are described. The docking stations can include an expandable frame, at least one sealing portion, and a valve seat. The expandable frame can be configured to conform to an interior shape of a portion of the circulatory system when expanded inside the circulatory system. The sealing portion can be configured to contact an interior surface of the circulatory system to create a seal. The valve seat can be connected to the expandable frame and can be configured to support an expandable transcatheter valve. The docking stations are adaptable to different anatomies/locations to allow implantation of a transcatheter valve in a variety of anatomies/locations.SELECTED DRAWING: Figure 6 【課題】経カテーテル的な植え込み可能なデバイスフレーム、および、経カテーテル的な植え込み可能なデバイスのためのドッキングステーションまたはドッキングデバイスを提供する。【解決手段】経カテーテル的な弁のためのドッキングステーションが説明されている。ドッキングステーションは、膨張可能なフレームと、少なくとも1つのシーリング部分と、バルブシートとを含み得る。膨張可能なフレームは、循環系の内側で膨張すると、循環系の一部分の内部形状に一致するように構成され得る。シーリング部分は、循環系の内部表面に接触し、シールを生成させるように構成され得る。バルブシートは、膨張可能なフレームに接続され得、膨張可能な経カテーテル的な弁を支持するように構成され得る。ドッキングステーションは、異なる解剖学的構造/場所に適合可能になっており、さまざまな解剖学的構造/場所の中での経カテーテル的な弁の植え込みを可能にする。【選択図】図6
Bibliography:Application Number: JP20230076291