WORKPIECE PROCESSING DEVICE

To provide a workpiece processing device which can prevent a process liquid supplied from a nozzle from entering an opening provided at a base plate by providing a first drip-proof mechanism and a second drip-proof mechanism.SOLUTION: A workpiece processing device of the invention includes: a base p...

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Main Authors YAMANOBE HOKUTO, TAJIMA KAZUHIRO
Format Patent
LanguageEnglish
Japanese
Published 06.07.2022
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Summary:To provide a workpiece processing device which can prevent a process liquid supplied from a nozzle from entering an opening provided at a base plate by providing a first drip-proof mechanism and a second drip-proof mechanism.SOLUTION: A workpiece processing device of the invention includes: a base plate 65 which partitions a space for processing a workpiece at the lower side; a processing module 70A which processes the workpiece; process liquid supply nozzles 83, 84 which supply a process liquid to the workpiece; a module driving device 71A; and a first drip-proof mechanism 91 and a second drip-proof mechanism 94. The base plate 65 has an opening 66 so that the processing module 70A can move in a horizontal direction. The first drip-proof mechanism 91 and the second drip-proof mechanism 94 prevent the process liquid supplied from the process liquid supply nozzles 83, 84 from entering through the opening 66.SELECTED DRAWING: Figure 6 【課題】第1の防滴機構および第2の防滴機構を設けることによって、ノズルから供給された処理液がベースプレートに設けられた開口部に入るのを防ぐことができるワークピース処理装置を提供する。【解決手段】本発明のワークピース処理装置は、ワークピースを処理する空間を下方で仕切るベースプレート65と、ワークピースを処理する処理モジュール70Aと、ワークピースに処理液を供給する処理液供給ノズル83,84と、モジュール駆動装置71Aと、第1の防滴機構91および第2の防滴機構94を備える。ベースプレート65は、処理モジュール70Aが水平方向に移動可能となるように開口部66を有し、第1の防滴機構91および第2の防滴機構94によって、処理液供給ノズル83,84から供給された処理液が開口部66から入り込むのを防止するように構成されている。【選択図】図6
Bibliography:Application Number: JP20200215232