WORKPIECE PROCESSING DEVICE
To provide a workpiece processing device which can prevent a process liquid supplied from a nozzle from entering an opening provided at a base plate by providing a first drip-proof mechanism and a second drip-proof mechanism.SOLUTION: A workpiece processing device of the invention includes: a base p...
Saved in:
Main Authors | , |
---|---|
Format | Patent |
Language | English Japanese |
Published |
06.07.2022
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Summary: | To provide a workpiece processing device which can prevent a process liquid supplied from a nozzle from entering an opening provided at a base plate by providing a first drip-proof mechanism and a second drip-proof mechanism.SOLUTION: A workpiece processing device of the invention includes: a base plate 65 which partitions a space for processing a workpiece at the lower side; a processing module 70A which processes the workpiece; process liquid supply nozzles 83, 84 which supply a process liquid to the workpiece; a module driving device 71A; and a first drip-proof mechanism 91 and a second drip-proof mechanism 94. The base plate 65 has an opening 66 so that the processing module 70A can move in a horizontal direction. The first drip-proof mechanism 91 and the second drip-proof mechanism 94 prevent the process liquid supplied from the process liquid supply nozzles 83, 84 from entering through the opening 66.SELECTED DRAWING: Figure 6
【課題】第1の防滴機構および第2の防滴機構を設けることによって、ノズルから供給された処理液がベースプレートに設けられた開口部に入るのを防ぐことができるワークピース処理装置を提供する。【解決手段】本発明のワークピース処理装置は、ワークピースを処理する空間を下方で仕切るベースプレート65と、ワークピースを処理する処理モジュール70Aと、ワークピースに処理液を供給する処理液供給ノズル83,84と、モジュール駆動装置71Aと、第1の防滴機構91および第2の防滴機構94を備える。ベースプレート65は、処理モジュール70Aが水平方向に移動可能となるように開口部66を有し、第1の防滴機構91および第2の防滴機構94によって、処理液供給ノズル83,84から供給された処理液が開口部66から入り込むのを防止するように構成されている。【選択図】図6 |
---|---|
Bibliography: | Application Number: JP20200215232 |