MULTI-BEAM IMAGE GENERATION DEVICE AND MULTI-BEAM IMAGE GENERATION METHOD

• Main Author: YAMADA KEIZO
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 01.11.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

PURPOSE: To provide a multi-beam image generation device and a multi-beam image generation method that generate a plurality of primary electron beams, move a sample while irradiating the sample with the primary electron beams, separate a plurality of secondary electron beams emitted at that time by a beam splitter, detect respective pieces of image information by an electron detection device, and combine the pieces of information into a single image to acquire images at high speed.CONSTITUTION: A multi-beam generation device includes a beam splitter, an objective lens, a deflection system, a projection lens, a stage, and an interferometer, and a plurality of primary electron beams generated by the multi-beam generation device are deflected to the axis of the objective lens by a beam splitter, the primary electron beam narrowed down to a sample is irradiated by the objective lens, and the sample is scanned by the deflection system. The secondary electrons emitted from the sample are deflected to the axis of the projection lens by the beam splitter, imaged on an electron detector by the projection lens, and the image information of the plurality of electron beams is output.SELECTED DRAWING: Figure 1 【目的】本発明は、マルチビーム画像生成装置およびマルチビーム画像生成方法に関し、複数の１次電子ビームを生成してこれらをサンプルに照射しつつサンプルを移動させ、そのときに放出された複数の２次電子ビームをビームスプリッタで分離して電子検出装置でそれぞれの画像情報を検出して１枚の画像に合成し、画像取得を高速に行うことを目的とする。【構成】複数ビーム生成装置と、ビームスプリッタと、対物レンズと、偏向系と、投影レンズと、ステージと、干渉計とを備え、複数ビーム生成装置で生成された複数の１次電子ビームをビームスプリッタで対レンズの軸に偏向し、対物レンズでサンプルに細く絞った１次電子ビームを照射すると共に偏向系により走査し、サンプルから放出された２次電子をビームスプリッタで投影レンズの軸に偏向し、投影レンズで電子検出器に結像して複数電子ビームの画像情報を出力するように構成している。【選択図】 図１