DRYER, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND METHOD OF DRYING SUBSTRATE HOLDER

• Main Author: TAMURA SHO
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 30.08.2021
• Subjects: BLASTING; DRYING; DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM; HEATING; LIGHTING; MECHANICAL ENGINEERING; WEAPONS

To provide a dryer capable of removing particles floating in a drying tank when a substrate holder is being dried.SOLUTION: A dryer 300 according to the present invention comprises: a drying tank 320 having a wall 322, a liquid feed port 334 for feeding a liquid to an inner face of the wall 322, and a discharge port 336 for discharging a liquid present therein; a plurality of nozzles 340 for ejecting gas to a substrate holder 200; liquid feeding means 312 for feeding a liquid into the drying tank 320 from the liquid feed port 334; gas feeding means 310 for feeding gas to the plurality of nozzles 340; and a controller 380. The controller 380 controls the liquid feeding means 312 and the gas feeding means 310 so that the plurality of nozzles 340 eject gas to the substrate holder 200 or to a substrate W while the liquid feed port 334 is feeding a liquid to the inner face of the wall 322.SELECTED DRAWING: Figure 3 【課題】基板ホルダの乾燥時に乾燥槽の内部を浮遊するパーティクルを除去できる、乾燥装置を提供する。【解決手段】本開示に係る乾燥装置３００は、壁３２２、壁３２２の内面に液体を供給するための液体供給口３３４及び内部の液体を排出するための排出口３３６を有する乾燥槽３２０と、基板ホルダ２００に気体を噴射するための複数のノズル３４０と、液体供給口３３４から乾燥槽３２０の内部に液体を供給するための液体供給手段３１２と、複数のノズル３４０に気体を供給するための気体供給手段３１０と、制御装置３８０と、を備え、制御装置３８０は、液体供給口３３４が壁３２２の内面に液体を供給している間に、複数のノズル３４０が基板ホルダ２００又は基板Ｗに気体を噴射するように、液体供給手段３１２及び気体供給手段３１０を制御する。【選択図】図３