APPARATUS AND METHODS FOR IMPLEMENTING PREDICTED SYSTEMATIC ERROR CORRECTION IN LOCATION SPECIFIC PROCESSING

• Main Authors: JOSHUA LAROSE, NOEL RUSSELL, VINCENT LAGANA-GIZZO, CHAE SOO DOO
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 04.02.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

To perform precise feature height control on a workpiece using a gas cluster ion beam (GCIB).SOLUTION: A method includes: a step of collecting parametric data including an initial profile of a measured attribute of an upper layer of a workpiece and at least one nth order derivative of a spatial variation of the measured attribute; a step of determining a predicted systematic error response for applying a GCIB to the upper layer to alter the initial profile of the measured attribute by using the parametric data, including the at least one nth order derivative, as input to a pre-established predictive model; a step of identifying a target profile of the measured attribute; a step of directing the GCIB (118) toward the upper layer of the workpiece; and a step of spatially modulating an applied property of the GCIB (118), on the basis of the predicted systematic error response and the parametric data, as a function of position on the upper layer of the workpiece to achieve the target profile of the measured attribute.SELECTED DRAWING: Figure 5 【課題】ガスクラスターイオンビーム（ＧＣＩＢ）を用いてワークピースの精密なフィーチャ高さ制御を行う。【解決手段】ワークピースの上位層の測定特性の当初プロファイルと該測定特性の空間的変動の少なくとも一つのｎ次導関数とを含むパラメータデータを収集する工程と、ＧＣＩＢを上位層に適用するために予測システム誤差レスポンスを決定し少なくとも一つのｎ次導関数を含むパラメータデータを予め決められた予測モデルへの入力として用いることによって測定特性の当初プロファイルを変更する工程と、測定特性の目標プロファイルを特定する工程と、ＧＣＩＢ（１１８）をワークピースの上位層に向けて指向する工程と、予測システム誤差レスポンス及びパラメータデータに基づいてＧＣＩＢ（１１８）の適用プロパティをワークピースの上位層上での位置関数として空間変調し測定特性の目標プロファイルを達成する工程と、を含む。【選択図】図５