METHOD FOR PRODUCING HEXACHLORODISILANE

• Main Authors: TERAUCHI KAZUTOSHI, ONO KAZUHIKO, YUBUNE KAZUYUKI, YAMAZAKI MASAKI
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 23.05.2019
• Subjects: CHEMISTRY; COMPOUNDS THEREOF; INORGANIC CHEMISTRY; METALLURGY; NON-METALLIC ELEMENTS

To provide a method for producing hexachlorodisilane that can be performed under ordinary pressure or positive pressure and can give high-purity hexachlorodisilane having a purity of 99.8 mass% or more.SOLUTION: A method for producing hexachlorodisilane having a purity of 99.8 mass% or more is provided which comprises: a first step of eliminating, from a mixture containing hexachlorodisilane and hydrogenated chlorosilane compounds, hydrogenated chlorosilane compounds having a boiling point higher than hexachlorodisilane; and a second step of eliminating, from the mixture obtained in the first step, hydrogenated chlorosilane compounds having a boiling point lower than hexachlorodisilane by distillation under ordinary pressure or positive pressure.SELECTED DRAWING: None 【課題】常圧下または正圧下で行うことが可能であり、純度９９．８質量％以上の高純度ヘキサクロロジシランを得ることが可能なヘキサクロロジシランの製造方法を提供する。【解決手段】ヘキサクロロジシランおよび水素化クロロシラン化合物を含有する混合物から、ヘキサクロロジシランよりも高い沸点を有する水素化クロロシラン化合物を除去する第１工程と、第１工程で得られた混合物から、ヘキサクロロジシランよりも低い沸点を有する水素化クロロシラン化合物を常圧下または正圧下の蒸留によって除去する第２工程とを有する純度９９．８質量％以上のヘキサクロロジシランの製造方法である。【選択図】なし