METHOD FOR REDUCING ALKYNE IMPURITIES IN FLUOROOLEFIN
To reduce concentration of at least one kind of alkyne impurity in a mixture by getting the mixture containing at least one kind of fluoroolefin and at least one kind of the alkyne impurity, and at least one zeolite into contact.SOLUTION: The disclosure relates to a method in which Ris a linear perf...
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Format | Patent |
Language | English Japanese |
Published |
09.05.2019
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Summary: | To reduce concentration of at least one kind of alkyne impurity in a mixture by getting the mixture containing at least one kind of fluoroolefin and at least one kind of the alkyne impurity, and at least one zeolite into contact.SOLUTION: The disclosure relates to a method in which Ris a linear perfluorinated alkyl group, X is H, F, Cl, Br or I; a least one kind of zeolite is selected from a group consisting of zeolite having a fine pore aperture with at least 4 Angstrom and about 5 Angstrom or less, zeolite having a fine pore aperture with at least 5 Angstrom and Sanderson electronegativity of about 2.6 or less, and a mixture thereof, but at least one kind of zeolite is not zeolite 4A. The disclosure relates to a method for manufacturing at least one kind of hydrotetrafluoropropene product material selected from a group consisting of CFCF=CH, CFCH=CHF and a mixture thereof, and a method for manufacturing at least one kind of chloro-trifluoropropene product material selected from a group consisting of CFCHCl=CH, CFCH=CHCl and a mixture thereof.SELECTED DRAWING: None
【課題】少なくとも1種のフルオロオレフィンおよび少なくとも1種のアルキン不純物を含む混合物と、少なくとも1種のゼオライトとを接触させて、混合物中の少なくとも1種のアルキン不純物の濃度を低減させる。【解決手段】本開示は、Rfは直鎖過フッ素化アルキル基であり、XはH、F、Cl、BrまたはIであり;少なくとも1種のゼオライトは、少なくとも4オングストロームであって約5オングストローム以下の細孔開口部を有するゼオライト、少なくとも約5オングストロームの細孔開口部および約2.6以下のSanderson電気陰性度を有するゼオライト、ならびにこれらの混合物からなる群から選択され、ただし、少なくとも1種のゼオライトは、ゼオライト4Aではない、ことを含む方法に関するものである。この開示は、また、CF3CF=CH2、CF3CH=CHF、および、これらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物を製造する方法に関し、および、CF3CHCl=CH2、CF3CH=CHCl、および、これらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種の少なくとも1種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物を製造する方法に関する。【選択図】なし |
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Bibliography: | Application Number: JP20190021021 |