TARGET FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

• Main Authors: ROBERT J RAFAC, IGOR V FOMENKOV, TAO YEZHENG, DANIEL JOHN WILLIAM BROWN, DANIEL JAMES GOLICH
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 18.04.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; X-RAY TECHNIQUE

To provide a target for an extreme ultraviolet (EUV) light source.SOLUTION: Techniques for forming a target and for producing extreme ultraviolet light include releasing an initial target material toward a target location, the target material including a material that emits extreme ultraviolet (EUV) light when converted to plasma, and directing a first amplified light beam toward the initial target material. The first amplified light beam has an energy sufficient to form a collection of pieces of target material from the initial target material, each of the pieces being smaller than the initial target material and being spatially distributed throughout a hemisphere shaped target, and directing a second amplified light beam toward the collection of pieces to convert the pieces of target material to plasma that emits EUV light.SELECTED DRAWING: Figure 4 【課題】極端紫外線（ＥＵＶ）光源用のターゲットを提供する。【解決手段】ターゲットを形成する技術および極端紫外光を生成する技術は、ターゲット位置に向けて初期ターゲット材料を放出することであって、ターゲット材料はプラズマに変換される際に極端紫外（ＥＵＶ）光を放出する材料を含むことと、第１増幅光ビームを初期ターゲット材料に向けて誘導することであって、第１増幅光ビームは初期ターゲット材料からターゲット材料片の集合体を形成するのに十分なエネルギーを有し、片の各々は、初期ターゲット材料より小さく、かつ半球状ターゲット全体に空間的に分散することと、第２増幅光ビームを片の集合体に向けて誘導してターゲット材料片を、ＥＵＶ光を放出するプラズマに変換することと、を含む。【選択図】図４