DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
To provide a device for processing a semiconductor device.SOLUTION: A device 1 includes a first tool 100 including a stress constituent, a guide 150, and a spacer 120 moving in the guide 150. A gap 118 is defined between the spacer 120 and the, and can tilt the spacer 120 for the guide 150. The devi...
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Format | Patent |
Language | English Japanese |
Published |
04.04.2019
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Summary: | To provide a device for processing a semiconductor device.SOLUTION: A device 1 includes a first tool 100 including a stress constituent, a guide 150, and a spacer 120 moving in the guide 150. A gap 118 is defined between the spacer 120 and the, and can tilt the spacer 120 for the guide 150. The device also includes a second tool 200 for holding a semiconductor device, and the first and second tools can mutually move between non-coupling state and coupling state. The spacer 120 is close to a pressure application constituent, and in the coupling state, the pressure application constituent applies a force, as the first pressure, to a first portion. Furthermore, the spacer 120 is a second portion remote from the pressure application constituent, and in the coupling state, close to a semiconductor device 400, and transmits a force from the pressure application constituent, as a second pressure, to the semiconductor device 400.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】半導体デバイスを加工するための装置を提供する。【解決手段】装置1は、圧力構成要素と、ガイド150と、ガイド150内で移動可能なスペーサー120と、を含む第1のツール100を含む。ギャップ118は、スペーサー120とガイド150との間に画定され、スペーサー120を、ガイド150に対して傾斜可能である。装置はまた、半導体デバイスを保持するための第2のツール200を含み、第1及び第2のツールは、非結合状態と結合状態との間で互いに対して移動可能である。スペーサー120は、圧力印加構成要素に近く、結合状態において、圧力印加構成要素が第1の圧力としての力を、第1の部分に印加する。スペーサー120はまた、圧力印加構成要素から遠い第2の部分であって、結合状態において、半導体デバイス400に近く、圧力印加構成要素からの力を第2の圧力として半導体デバイス400に伝達する。【選択図】図1 |
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Bibliography: | Application Number: JP20180169540 |