MANUFACTURING METHOD OF TITANOSILICATE AND TITANOSILICATE

• Main Authors: TAKEMURA TOSHIKI, NISHIYAMA NORIKAZU, OTA MISAKI, XU YANG QIN, MIYAKE HIROSHI
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 10.01.2019
• Subjects: CHEMISTRY; COMPOUNDS THEREOF; INORGANIC CHEMISTRY; METALLURGY; NON-METALLIC ELEMENTS

To provide a manufacturing method of titanosilicate capable of introducing a sufficient amount of titanium atoms into a crystal lattice.SOLUTION: The manufacturing method of crystalline titanosilicate includes a complex formation step S1, a first firing step S2, a heating step S3, and a second firing step S4. Water is added to a mixture of a titanium source, a silicon source and a nonaqueous polar solvent to form a silica-titania complex at the complex formation step S1. The silica-titania complex is fired at the first firing step S2. A mixture of a structure-directing agent and a fired silica-titania complex is heated under a steam atmosphere at the heating step S3. The structure-directing agent is removed by firing the heated mixture at the second firing step S4.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】結晶格子中に充分な量のチタン原子を導入できるチタノシリケートの製造方法を提供する。【解決手段】結晶性のチタノシリケートの製造方法は、複合体生成工程Ｓ１と、第１焼成工程Ｓ２と、加熱工程Ｓ３と、第２焼成工程Ｓ４とを備える。複合体生成工程Ｓ１では、チタン源、ケイ素源及び非水極性溶媒の混合物に水を加えることにより、シリカ−チタニア複合体を生成させる。第１焼成工程Ｓ２では、シリカ−チタニア複合体を焼成する。加熱工程Ｓ３では、構造規定剤及び焼成後のシリカ−チタニア複合体の混合物を水蒸気雰囲気下で加熱する。第２焼成工程Ｓ４では、加熱後の混合物を焼成することにより、構造規定剤を除去する。【選択図】図１