LITHOGRAPHIC APPARATUS

• Main Author: BUTLER HANS
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 18.05.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the accuracy of positioning of an exchangeable object supported by a movable support.SOLUTION: A lithographic apparatus includes: a patterning device support including a movable structure movably arranged with respect to an object, a patterning device holder movably arranged relative to the movable structure, an actuator to move the movable structure relative to the object, and an ultra-short stroke actuator to move the patterning device holder relative to the movable structure; a substrate support to hold a substrate; a projection system to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate; a position measurement system for measuring a substrate positional error which is a difference between a desired position and an actual position of the substrate relative to a reference object; and a controller to move the actuator and the ultra-short stroke actuator on the basis at least partly of the substrate positional error.SELECTED DRAWING: Figure 6 【課題】可動支持体によって支持される交換可能なオブジェクトの位置決めの精度を増加させる。【解決手段】リソグラフィ装置は、オブジェクトに対して移動自在に配置された可動構造、可動構造に対して移動自在に配置されるパターニングデバイスホルダ、オブジェクトに対して可動構造を移動させるアクチュエータ、及び、可動構造に対してパターニングデバイスホルダを移動させるウルトラショートストロークアクチュエータを有するパターニングデバイス支持体と、基板を保持する基板支持体と、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、基準オブジェクトに対する基板の所望の位置と実際の位置との差である基板位置の誤差を測定する位置測定システムと、基板位置の誤差に少なくとも部分的に基づいてアクチュエータとウルトラショートストロークアクチュエータとを移動させるコントローラと、を備える。【選択図】図６