SURFACE RELIEF MICROSTRUCTURE, RELATED DEVICE AND METHOD OF MAKING THE SAME

• Main Authors: MOHAMMED IBN-ELHAJ, WOLFGANG WERNET, HUBERT SEIBERLE, JULIEN MARTZ
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 13.04.2017
• Subjects: BOOK COVERS; BOOKBINDING; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDEDFOR; FILES; LOOSE LEAVES; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICS; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITYFEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOTOTHERWISE PROVIDED FOR; SPECIAL PRINTED MATTER; TRANSPORTING

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of replicating a patterned surface relief microstructure, and an element made as a replica according to the method.SOLUTION: The method of replicating a patterned surface relief microstructure comprises the steps of; generating a first layer with a patterned surface relief microstructure; generating a master by copying the microstructure of the first layer into a second layer, thereby involving at least one dry or wet etching step. The method is characterized by an additional step of bringing the microstructure of the master into contact with a replica material to reproduce the microstructure of the master in the replica. The surface relief microstructures are suitable for displaying images with a positive-negative and/or color image flip. The elements made as replicas are particularly useful for securing documents and articles against counterfeiting and falsification.SELECTED DRAWING: None 【課題】パターン化された表面レリーフ微細構造を複製するための方法の提供、および、その方法により、レプリカとして作製された要素の提供。【解決手段】パターン化された表面レリーフ微細構造を持つ第一の層を生成する工程と、第一の層の微細構造を第二の層に複写し、それにより、少なくとも一つのドライまたはウェットエッチング工程を伴うことにより、マスタを生成する工程とを含み、マスタの微細構造をレプリカ材料に接触させ、マスタの微細構造をレプリカに再現する、追加的な工程を特徴とする方法。表面レリーフ微細構造は、ポジティブ−ネガティブおよび／または色イメージ反転を持つイメージを表示するために好適である。レプリカとして作製された要素は、特に、偽造および改ざんに対して文書および物品を保全するために有効である。【選択図】なし