SEMICONDUCTOR POWER MODULE AND MOBILE
PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress damage on an insulating substrate when connecting the wiring on the insulating substrate and a lead by ultrasonic connection, in a semiconductor power module and a mobile.SOLUTION: In a lead 5 of a semiconductor power module, a connected part 5a has a first region 5...
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Format | Patent |
Language | English Japanese |
Published |
06.04.2017
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Summary: | PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress damage on an insulating substrate when connecting the wiring on the insulating substrate and a lead by ultrasonic connection, in a semiconductor power module and a mobile.SOLUTION: In a lead 5 of a semiconductor power module, a connected part 5a has a first region 5b located on an end 5e side, and a second region 5c located on a bend 5d side. The first region 5b in the connected part 5a is connected directly with a wiring pattern 3, and the second region 5c is connected with the wiring pattern 3 via an Ni layer 11. Since the Ni layer 11 is interposed between the wiring pattern 3 and itself, in the second region 5c located on the bend 5d side, application of a pressure to an insulating substrate 2 below the bend 5d can be relaxed when supersonic wave is applied at the time of lead connection, and formation of a damaged part on the insulating substrate 2 can be reduced.SELECTED DRAWING: Figure 7
【課題】半導体パワーモジュールおよび移動体において、超音波接続で絶縁基板上の配線とリードとを接続する際の絶縁基板の損傷を抑止する。【解決手段】半導体パワーモジュールのリード5において、被接続部5aは、端部5e側に位置する第1領域5bと、屈曲部5d側に位置する第2領域5cとを有している。そして、被接続部5aにおける第1領域5bは、配線パターン3と直接接続しており、第2領域5cは、Ni層11を介して配線パターン3と接続している。これにより、屈曲部5d側に位置する第2領域5cは、配線パターン3との間にNi層11が介在されているため、リード接続の際の超音波印加時に屈曲部5dの下方の絶縁基板2に圧力が付与されることを緩和することができ、絶縁基板2に損傷部が形成されることを低減できる。【選択図】図7 |
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Bibliography: | Application Number: JP20150196956 |