SEMICONDUCTOR DEVICE

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which can inhibit the occurrence of poor connection at an interface of substrates connected by bonding.SOLUTION: A semiconductor device of an embodiment comprises a first substrate and a second substrate bonded to the first substrate. The first...

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Main Authors YAMADA SHUTO, ASHIDATE HIROAKI, TSUDA NAOHIRO, YOSHIDA TAKAMITSU, UTSUMI KUNIAKI, TANIDA KAZUMA, ISIZUKA RYUJI, OKAWA TATSUYA
Format Patent
LanguageEnglish
Japanese
Published 09.02.2017
Subjects
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Summary:PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which can inhibit the occurrence of poor connection at an interface of substrates connected by bonding.SOLUTION: A semiconductor device of an embodiment comprises a first substrate and a second substrate bonded to the first substrate. The first substrate has a first conductive pattern and a second conductive pattern. The second substrate has a third conductive pattern and a fourth conductive pattern. The second conductive pattern is formed thinner than the first conductive pattern. A lower layer side of the first conductive pattern is connected to a first via connected to a first lower layer side pattern. Further, the first conductive pattern and the third conductive pattern are connected in an overlapping manner. The second conductive pattern and the fourth conductive pattern are connected in an overlapping manner.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】基板の貼合によって接続される接合部分に接続不良が発生することを抑制することができる半導体装置を提供すること。【解決手段】実施形態の半導体装置は、第1の基板と、前記第1の基板に貼合された第2の基板と、を備えている。そして、前記第1の基板は、第1の導電パターンと、第2の導電パターンと、を有している。また、前記第2の基板は、第3の導電パターンと、第4の導電パターンと、を有している。そして、前記第2の導電パターンは、前記第1の導電パターンよりも薄く形成されている。また、前記第1の導電パターンの下層側は、第1の下層側パターンに接続された第1のビアに接続されている。さらに、前記第1の導電パターンと前記第3の導電パターンとが重ね合されて接続されている。また、前記第2の導電パターンと前記第4の導電パターンとが重ね合されて接続されている。【選択図】図1
Bibliography:Application Number: JP20150152222