SUBSTRATE PROCESSING TOOL

• Main Authors: ALEXANDER KRUPYSHEV, MARTIN R ELLIOT, JOSEPH HALLISEY, CHRISTOPHER HOFMEISTER, CRAIG J CARBONE, BLAHNIK JEFFREY C, JOSEPH A KRAUS, WILLIAM FOSNIGHT, FONG HI YIN OWEN
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 24.12.2015
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CONVEYING; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL; PACKING; PERFORMING OPERATIONS; PNEUMATIC TUBE CONVEYORS; SEMICONDUCTOR DEVICES; SHOP CONVEYOR SYSTEMS; STORING; TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING ORTIPPING; TRANSPORTING

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate processing tool suppressing the down time of a substrate processing tool to the minimum, and suppressing substrate particle pollution to the minimum.SOLUTION: The substrate processing tool includes: a frame which forms at least one chamber capable of isolation to retain a controlled atmosphere; at least two substrate support bodies (support shelves) 22A, 22B which are positioned in the at least one of respective chambers 14A, 14B capable of isolation in vertical lamination, and configured to support each substrate; and a cooling unit which are communicably coupled with the at least two substrate support bodies, and configured to supply, along with the at least two substrate support bodies, simultaneous conduction cooling to each substrate positioned on the at least two substrate support bodies. 【課題】基板処理ツールのダウンタイムを最小限に抑えること、及び基板のパーティクル汚染を最小限に抑える基板処理ツールを提供する。【解決手段】基板処理ツールは、制御された雰囲気を保持するために少なくとも１つの隔離可能なチャンバを形成するフレームと、少なくとも１つの隔離可能なチャンバ１４Ａ，１４Ｂのそれぞれに位置する少なくとも２つの基板支持体（支持棚）２２Ａ，２２Ｂであって、互いに上下に積層され、それぞれの基板を支えるために構成されている、少なくとも２つの基板支持体と、少なくとも２つの基板支持体と連通可能に結合している冷却ユニットである。少なくとも２つの基板支持体及び冷却ユニットが、少なくとも２つの基板支持体上に位置する各基板のそれぞれに同時伝導冷却を与えるように構成されている、冷却ユニットと、を有する。【選択図】図４Ａ