ION BEAM DEVICE

• Main Authors: SHICHI HIROYASU, MATSUBARA SHINICHI, MUTO HIROYUKI, KAWANAMI YOSHIMI
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 16.11.2015
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ion beam device capable of changing ion energy to perform irradiation when observation, processing and measurement are performed using ion beams, thereby achieving super high resolution observation, low damage observation, high accuracy dimensional measurement and super fine fast processing according to set conditions.SOLUTION: An ion beam device including a gas electric field ionization ion source capable of ionizing at least two kinds of gases and an electrostatic objective lens comprising four electrodes includes a control device that at least stores: an application voltage on each electrode of the electrostatic lens and a sample voltage with respect to a first accelerating voltage in the irradiation of a first kind gas ion; and an application voltage on each electrode of the electrostatic lens and a sample voltage with respect to a second accelerating voltage different from the first accelerating voltage in the irradiation of a second kind gas ion. 【課題】イオンビームにより観察・加工・計測する際に、イオンエネルギーを変えて照射することが可能で、設定条件によって、超高分解能観察・低損傷観察・高精度寸法計測や極微細高速加工を実現するイオンビーム装置を提供する。【解決手段】少なくとも２種類のガスをイオン化できるガス電界電離イオン源と、４個の電極から構成される静電対物レンズを備えたイオンビーム装置において、第一種のガスイオンを照射するときの第一の加速電圧に対して、前記静電レンズの各々の電極への印加電圧および試料電圧と、第二種のガスイオンを照射するとき、第一の加速電圧とは異なる第二の加速電圧に対して、前記静電レンズの各々の電極への印加電圧および試料電圧とを少なくとも記憶する制御装置を備えることを特徴とするイオンビーム装置。【選択図】図１