ONDASETRON HYDROCHLORID DIHYDRATE OF HIGH PURITY AND PROCESS FOR ITS PRODUCING

• Main Authors: DOBAY LASZLO, TOTH GEZA, OLAH RUBEN DR, WERKNE PAPP EVA, HEGEDUES ISTVAN, DEUTSCHNE JUHASZ IDA DR, TERDY LASZLO, CZIBULA LASZLO DR, NAGYNE BAGDY JUDIT, UEBERHARDT TAMASNE
• Format: Patent
• Language: English; Hungarian
• Published: 28.06.2004
• Edition: 7

A találmány tárgya ondansetron-hidroklorid-dihidrát (kémiai nevén:1,2,3,9-tetrahidro-9-metil-3-/(2-metil-lH-imidazol-l-il)-metil/-4H-karbazol-4-on-hidroklorid-dihidrát), amely legfeljebb 0,10 tömeg%kémiai szennyezést tartalmaz. A találmány továbbá, eljárás a fentitermék előállítására, amely szerint az önmagában ismert kémiaiszintézissel előállított ondansetron-bázist (szennyezőanyag-tartalom:0,5-10 tömeg; szín: szürkétől a sötétbarnáig) vízben 95-100 °C-onsósav-oldattal kezelik, az oldat pH-ját 5,8-6,2 értékre állítják, majdugyanezen a hőmérsékleten az oldatot derítik, a szennyezéseketszűréssel eltávolítják, a kapott szűrlet pH-ját 1-2 értékre állítjákvizes sósavoldattal, majd az oldatot 0,1-1 °C/perc hűtési sebességgel20-25 °C-ra hűtve kristályosítják, a kapott, kívánt terméketizolálják. Ó The invention relates to high purity ondansetron hydrochloride dihydrate containing not more than 0.10 w/w % chemical impurities as well as to the process for its synthesis.