Electrolyte et procédé d'électrodéposition de cuivre et de graphène

• Main Authors: MEVELLEC, Vincent, CAILLARD, Louis, DOUSSOT, Céline Pascale
• Format: Patent
• Language: French
• Published: 25.11.2022
• Subjects: APPARATUS THEREFOR; CHEMISTRY; ELECTROFORMING; ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; METALLURGY; PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTIONOF COATINGS

Electrolyte et procédé d'électrodéposition de cuivre et de graphène La présente invention a pour objet une composition d'électrolyte pour le dépôt de cuivre dopé au graphène sur des substrats semi-conducteurs. Cet électrolyte a un pH de 7,0 à 11,0, et comprend des ions cuivre en une concentration allant de 0.1 mM à 2000 mM, au moins une amine présente en une concentration comprise entre 0.5 mM et 5000 mM, de 0,1 g/L à 10 g/L de graphène ou d'oxyde de graphène, et un solvant. The present invention relates to an electrolyte composition for depositing graphene-doped copper onto semiconductor substrates. This electrolyte has a pH ranging from 7.0 to 11.0 and comprises copper ions at a concentration ranging from 0.1 mM to 2000 mM, at least one amine present at a concentration comprised between 0.5 mM and 5000 mM, from 0.1 g/L to 10 g/L of graphene or graphene oxide and a solvent.