PROCEDE POUR LE TRAITEMENT D'UN SUSBTRAT SOI DANS UN EQUIPEMENT DE NETTOYAGE MONOPLAQUE

• Main Authors: VIRAVAUX, LAURENT, LEDRAPPIER, SEBASTIEN
• Format: Patent
• Language: French
• Published: 14.08.2020
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CLEANING; CLEANING IN GENERAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY; PERFORMING OPERATIONS; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL; PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTUREOR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TRANSPORTING

L'invention concerne un procédé pour le traitement d'un substrat SOI (1) dans un équipement de nettoyage monoplaque, ledit équipement comprenant : * Un système de préhension du substrat (1) apte à opérer un mouvement de rotation, * Une première buse (10) pour la dispense d'une premièr...