PROCEDE DE FABRICATION INCORPORANT DES PARTICULES A BASE DE SILICIUM
La présente invention concerne un procédé de fabrication dans lequel on incorpore des particules submicroniques à base de silicium dans une matrice, caractérisé en ce que, lors de l'incorporation des particules : - les particules sont dans un état compacté avec une densité apparente supérieure...
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Format | Patent |
Language | French |
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20.12.2019
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Summary: | La présente invention concerne un procédé de fabrication dans lequel on incorpore des particules submicroniques à base de silicium dans une matrice, caractérisé en ce que, lors de l'incorporation des particules : - les particules sont dans un état compacté avec une densité apparente supérieure à 0,10 grammes par centimètre cube, et - les particules compactées ont une surface spécifique d'au moins 70% celles des particules considérées séparées sans contact entre elles.
A production method is provided in which submicronic particles containing silicon are incorporated into a matrix, wherein, during the incorporation of the particles, the particles are in a compacted state with a bulk density of more than 0.10 grams per cubic centimeter, and the compacted particles have a specific surface area at least 70% of that of the particles considered separately without contact between each other. |
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Bibliography: | Application Number: FR20170062931 |