DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE PIECES
L'invention concerne un dispositif de traitement (50) de substrats semiconducteurs (60), le dispositif comprenant une enceinte (52) et au moins un circuit (68, 70) d'apport d'un mélange gazeux dans l'enceinte, l'enceinte contenant au moins un support (54), le support compren...
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Format | Patent |
Language | French |
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02.03.2018
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Summary: | L'invention concerne un dispositif de traitement (50) de substrats semiconducteurs (60), le dispositif comprenant une enceinte (52) et au moins un circuit (68, 70) d'apport d'un mélange gazeux dans l'enceinte, l'enceinte contenant au moins un support (54), le support comprenant un empilement de plateaux (58) sur lesquels reposent les substrats semiconducteurs, chaque plateau ayant une face sensiblement horizontale sur laquelle repose au moins l'un des substrats semiconducteurs, dans lequel au moins l'un des plateaux comprend au moins un passage pour le mélange gazeux entre le substrat et le plateau.
The invention relates to a device (50) for treating semiconductor substrates (60), the device comprising an enclosure (52) and at least one circuit (68, 70) for feeding a gaseous mixture into the enclosure, the enclosure containing at least one support (54), the support comprising a stack of plates (58) on which the semiconductor substrates are supported, each plate having a substantially horizontal face on which at least one of the semiconductor substrates is supported, wherein at least one of the plates comprises at least one passage for the gaseous mixture between the substrate and the plate. |
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Bibliography: | Application Number: FR20160058054 |