GENERATEUR DE PLASMA ETENDU COMPRENANT DES GENERATEURS ELEMENTAIRES INTEGRES
Selon l'invention, il est proposé un générateur d'un plasma dans une enceinte sous vide comprenant au moins un générateur élémentaire débouchant dans l'enceinte, le générateur élémentaire comprenant : - un générateur de micro-ondes, - un adaptateur d'impédance s'étendant sel...
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Format | Patent |
Language | French |
Published |
21.11.2014
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Summary: | Selon l'invention, il est proposé un générateur d'un plasma dans une enceinte sous vide comprenant au moins un générateur élémentaire débouchant dans l'enceinte, le générateur élémentaire comprenant : - un générateur de micro-ondes, - un adaptateur d'impédance s'étendant selon une direction coaxiale, l'adaptateur étant configuré pour adapter l'impédance du plasma à l'impédance du générateur de micro-ondes et pour assurer la protection du générateur de micro-ondes, le générateur de micro-ondes étant situé dans le prolongement de l'adaptateur et connecté directement à l'adaptateur.
The invention concerns a plasma generator in a vacuum chamber comprising at least one elementary generator opening into the chamber, the elementary generator comprising: - a microwave generator, - an impedance adapter extending in a coaxial direction, the adapter being configured to adapt the impedance of the plasma to the impedance of the microwave generator and to protect the microwave generator, the microwave generator being located in the extension of the adapter and connected directly to the adapter. |
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Bibliography: | Application Number: FR20130001139 |