PROCEDE POUR GRAVER UNE COUCHE D'OXYDE METALLIQUE CONDUCTEUR UTILISANT UNE MICROELECTRODE

L'invention concerne un procédé pour graver une zone sélectionnée d'une couche d'oxyde métallique conducteur déposée sur un support, consistant à éliminer ladite zone par voie électrochimique en présence d'une microélectrode polarisée. La présente invention concerne également la...

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Main Authors GRISOTTO FEDERICO, METAYE ROMAIN
Format Patent
LanguageFrench
Published 30.09.2011
Subjects
APPARATUS THEREFOR
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CHEMISTRY
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES
METALLURGY
PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROMOBJECTS
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:L'invention concerne un procédé pour graver une zone sélectionnée d'une couche d'oxyde métallique conducteur déposée sur un support, consistant à éliminer ladite zone par voie électrochimique en présence d'une microélectrode polarisée. La présente invention concerne également la couche gravée obtenue par un tel procédé. A method for etching a selected area of a conductive metal oxide layer deposited on a support is provided. The method comprises removing the area via electrochemical route in the presence of a polarized microelectrode and an electrochemical solution. In addition, an etched layer obtained with the foregoing method is provided.
Bibliography:Application Number: FR20100052227