PROCEDE DE FABRICATION DE COUCHES DE POLISSAGE DE PATIN DE POLISSAGE CHIMIQUE -MECANIQUE AYANT DES DEFAUTS D'INCLUSION DE GAZ REDUITS

L'invention se rapporte à un procédé de fabrication de couches de polissage de patin de polissage chimique-mécanique qui minimise les défauts d'inclusion de gaz entraîné. L'invention se rapporte également à un ensemble de tête de mélange (30) pour utilisation dans la fabrication de co...

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Main Authors LIBBERS PAUL, TRACY JONATHAN, VERBARO DAVID, GEIGER ANDREW M, ESBENSHADE JOHN, NOVEMBER SAMUEL J, SACCHETTI PAUL J, WATKINS MICHAEL E
Format Patent
LanguageFrench
Published 29.10.2010
Subjects
GRINDING
MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING, DISPERSING
PERFORMING OPERATIONS
PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
POLISHING
TOOLS FOR GRINDING, BUFFING, OR SHARPENING
TRANSPORTING
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Summary:L'invention se rapporte à un procédé de fabrication de couches de polissage de patin de polissage chimique-mécanique qui minimise les défauts d'inclusion de gaz entraîné. L'invention se rapporte également à un ensemble de tête de mélange (30) pour utilisation dans la fabrication de couches de polissage de patin de polissage chimique-mécanique, dans lesquelles des inclusions de défauts d'inclusion de gaz entraîné sont minimisées. A mix head assembly for use in the manufacture of chemical mechanical polishing pad polishing layers is provided, wherein inclusions of entrained gas inclusion defects are minimized.
Bibliography:Application Number: FR20100053153