APPAREIL POUR LE TRAITEMENT PAR PLASMA DE CORPS CREUX

La présente invention concerne un appareil pour le traitement plasma des parois intérieures d'au moins un corps creux comprenant :- au moins un support (4) adapté aux dimensions extérieures du corps creux (12),- au moins deux électrodes métalliques (8),caractérisé en ce que ledit appareil compr...

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Main Authors VIROT THOMAS, MONTGOMERY DAVID BENJAMIN, ENFOUX YVES, BOULANGE LAURENCE
Format Patent
LanguageFrench
Published 02.10.2009
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Abstract La présente invention concerne un appareil pour le traitement plasma des parois intérieures d'au moins un corps creux comprenant :- au moins un support (4) adapté aux dimensions extérieures du corps creux (12),- au moins deux électrodes métalliques (8),caractérisé en ce que ledit appareil comprend caractérisé en ce que ledit appareil comprend un couvercle (1) comportant des moyens (10) pour délivrer un gaz dans les volumes intérieurs desdits corps creux et un système pour le traitement plasma des parois intérieures d'au moins un corps creux, ledit système comprenant ledit appareil.Elle concerne également un procédé pour le revêtement par dépôt chimique en phase vapeur des parois intérieures d'au moins un corps creux mettant en oeuvre ledit système.Elle concerne également un corps creux présentant un ratio L/D supérieur ou égal à 3, de préférence supérieur ou égal à 5, L étant la longueur et D étant le diamètre dudit corps creux, ledit corps creux ayant un revêtement intérieur d'une épaisseur comprise entre 300 et 500 nm présentant des variations inférieures à 20%.
AbstractList La présente invention concerne un appareil pour le traitement plasma des parois intérieures d'au moins un corps creux comprenant :- au moins un support (4) adapté aux dimensions extérieures du corps creux (12),- au moins deux électrodes métalliques (8),caractérisé en ce que ledit appareil comprend caractérisé en ce que ledit appareil comprend un couvercle (1) comportant des moyens (10) pour délivrer un gaz dans les volumes intérieurs desdits corps creux et un système pour le traitement plasma des parois intérieures d'au moins un corps creux, ledit système comprenant ledit appareil.Elle concerne également un procédé pour le revêtement par dépôt chimique en phase vapeur des parois intérieures d'au moins un corps creux mettant en oeuvre ledit système.Elle concerne également un corps creux présentant un ratio L/D supérieur ou égal à 3, de préférence supérieur ou égal à 5, L étant la longueur et D étant le diamètre dudit corps creux, ledit corps creux ayant un revêtement intérieur d'une épaisseur comprise entre 300 et 500 nm présentant des variations inférieures à 20%.
Author VIROT THOMAS
BOULANGE LAURENCE
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SubjectTerms APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS
CHEMICAL SURFACE TREATMENT
CHEMISTRY
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL
COATING METALLIC MATERIAL
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DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROMTHE BODY
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HYGIENE
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JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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MINERAL OR SLAG WOOL
PERFORMING OPERATIONS
PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL
SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL
SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS
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