DETECTION DE DEFAUTS A BASE DE PARTICULARITES

L'invention concerne un procédé d'inspection d'un substrat configuré, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à : a. préparer une image de référence et une image de test (610); b. extraire des particularités à partir de l'image de référence et extraire des par...

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Main Authors RHOADS ADAM, TALBOT CHRISTOPHER G, LO CHIWOEI WAYNE, GALLARDA JR HARRY S
Format Patent
LanguageFrench
Published 06.10.2000
Edition7
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Summary:L'invention concerne un procédé d'inspection d'un substrat configuré, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à : a. préparer une image de référence et une image de test (610); b. extraire des particularités à partir de l'image de référence et extraire des particularités à partir de l'image de test (620); c. mettre en concordance des particularités de l'image de référence et les particularités de l'image de test (625); et d. comparer des particularités de l'image de référence et de l'image de test afin d'identifier des défauts (630). L'invention concerne aussi un appareil correspondant ainsi qu'un produit programme informatique comprenant un support lisible par ordinateur contenant des instructions de commande d'un système informatique caractérisé en ce que ces instructions consistent à mettre en oeuvre les étapes citées ci-dessus. Methods and apparatus are provided for inspecting a patterned substrate, comprising: preparing a reference image and a test image, extracting features from the reference image and extracting features from the test image, matching features of the reference image and features of the test image; and comparing features of the reference image and of the test image to identify defects. Embodiments include apparatus for inspecting patterned substrates, computer-readable media containing instructions for controlling a system having a processor for inspecting patterned substrates, and computer program products comprising a computer usable media having computer-readable program code embodied therein for controlling a system for inspecting patterned substrates. The images can be electron-beam voltage-contrast images.
Bibliography:Application Number: FR20000000169