Photolithography process for repetitive patterns over a large area

• Main Author: GERARD GOMEZ, JEAN-PIERRE GALVES, PIERRE MERLOZ ET JEAN-PIERRE CREUSOT
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 23.11.1990
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

The invention relates to a photo-etching process for the production of superimposed etch patterns using a small number of masks in order to reduce the costs. This invention is especially applicable to the production of colour display screens for beam-indexation tubes. These screens comprise three patterns of colour-luminophore strips R, G(V), B separated by a pattern of opaque strips N; a pattern of indexation strips I is also provided. Although the pattern of indexation strips has a pitch Pi which can be one or two or three or four times the pitch Pn of the opaque array (network), whereas the pitch of the colour luminophores is three times that of the opaque array, all the patterns are etched using a single mask having openings of width LM equal to the width Li of the narrowest strips (in practice the indexation strips), these openings of the single mask having a spacing pitch PM equal to the lowest common multiple of the pitches of all the patterns to be produced, in this case 6Pn. Exposure is then carried out in several steps for each layer to be photo-etched. The cost of a single mask is very low compared to the cost of several very precisely registered (matched) masks. L'invention concerne un procédé de photogravure pour la réalisation de motifs de gravure superposés utilisant un petit nombre de masques en vue de réduire les coûts.Cette invention est applicable notamment à la fabrication d'écrans de visualisation en couleurs pour tubes à indexation de faisceau. Ces écrans comportent trois motifs de bandes de luminophores de couleurs R, V, B séparées par un motif de bandes opaques N; un motif de bandes d'indexation 1 est également prévu. Bien que le motif de bandes d'indexation ait un pas Pi qui peut être une ou deux ou trois ou quatre fois le pas Pn du réseau opaque, alors que le pas des luminophores de couleur est trois fois celui du réseau opaque, on réalise la gravure de tous les motifs à l'aide d'un masque unique ayant des ouvertures de largeur LM égale à la largeur Li des bandes les plus étroites (en pratique les bandes d'indexation), ces ouvertures du masque unique ayant un pas d'espacement PM égal au plus petit commun multiple entre les pas de tous les motifs à réaliser, en l'occurrence 6Pn. L'insolation se fait alors en plusieurs étapes pour chaque couche à photograver.Le coût d'un masque unique est très faible par rapport au coût de plusieurs masques très précisément appairés.