PROCEDE DE REALISATION DE MATRICES DECOMMANDE A DIODES POUR ECRAN PLAT DE VISUALISATION ELECTRO-OPTIQUE ET ECRAN PLAT REALISE PAR CE PROCEDE

PROCEDE DE REALISATION DE MATRICES DE COMMANDE A DIODES POUR ECRAN PLAT DE VISUALISATION ELECTRO-OPTIQUE PREVOYANT DE DEPOSER SUR UN SUBSTRAT 1 UNE COUCHE DE MATERIAU CONDUCTEUR 2 ET DE GRAVER DANS CETTE COUCHE LES ELECTRODES E ET LES CONDUCTEURS DE COMMANDE C. L'ENSEMBLE EST ENSUITE REVETU D&#...

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Main Author NICOLAS SZYDLO, JEAN-NOEL PERBET ET NICOLE PROUST
Format Patent
LanguageFrench
Published 03.10.1986
Edition4
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Summary:PROCEDE DE REALISATION DE MATRICES DE COMMANDE A DIODES POUR ECRAN PLAT DE VISUALISATION ELECTRO-OPTIQUE PREVOYANT DE DEPOSER SUR UN SUBSTRAT 1 UNE COUCHE DE MATERIAU CONDUCTEUR 2 ET DE GRAVER DANS CETTE COUCHE LES ELECTRODES E ET LES CONDUCTEURS DE COMMANDE C. L'ENSEMBLE EST ENSUITE REVETU D'UNE COUCHE SEMI-CONDUCTRICE AMORPHE NON DOPEE 4, D'UNE COUCHE SEMI-CONDUCTRICE AMORPHE DOPEE 5, D'UNE DEUXIEME COUCHE D'UN MATERIAU CONDUCTEUR 6. DANS CES TROIS COUCHES SONT GRAVES DES PLOTS (OU ELEMENTS DE COMMANDE) RELIANT LES ELECTRODES E AUX CONDUCTEURS DE COMMANDE C.L'INVENTION EST APPLICABLE A LA REALISATION D'ECRANS DE VISUALISATION A CRISTAL LIQUIDE. Diode-type control matrix arrays for electrooptical flat-panel screens which find application in liquid-crystal displays are fabricated by depositing a layer of conductive material on a substrate and etching the control electrodes and control leads in this layer. The entire structure is then coated with an undoped amorphous semiconductor layer, with a doped amorphous semiconductor layer, and with a second layer of conductive material. In these three layers are etched terminal areas (or control elements) for connecting the control electrodes to the control leads.
Bibliography:Application Number: FR19850005008