PROCEDE DE REALISATION DE MATRICES DECOMMANDE A DIODES POUR ECRAN PLAT DE VISUALISATION ELECTRO-OPTIQUE ET ECRAN PLAT REALISE PAR CE PROCEDE
PROCEDE DE REALISATION DE MATRICES DE COMMANDE A DIODES POUR ECRAN PLAT DE VISUALISATION ELECTRO-OPTIQUE PREVOYANT DE DEPOSER SUR UN SUBSTRAT 1 UNE COUCHE DE MATERIAU CONDUCTEUR 2 ET DE GRAVER DANS CETTE COUCHE LES ELECTRODES E ET LES CONDUCTEURS DE COMMANDE C. L'ENSEMBLE EST ENSUITE REVETU D...
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Format | Patent |
Language | French |
Published |
03.10.1986
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Edition | 4 |
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Summary: | PROCEDE DE REALISATION DE MATRICES DE COMMANDE A DIODES POUR ECRAN PLAT DE VISUALISATION ELECTRO-OPTIQUE PREVOYANT DE DEPOSER SUR UN SUBSTRAT 1 UNE COUCHE DE MATERIAU CONDUCTEUR 2 ET DE GRAVER DANS CETTE COUCHE LES ELECTRODES E ET LES CONDUCTEURS DE COMMANDE C. L'ENSEMBLE EST ENSUITE REVETU D'UNE COUCHE SEMI-CONDUCTRICE AMORPHE NON DOPEE 4, D'UNE COUCHE SEMI-CONDUCTRICE AMORPHE DOPEE 5, D'UNE DEUXIEME COUCHE D'UN MATERIAU CONDUCTEUR 6. DANS CES TROIS COUCHES SONT GRAVES DES PLOTS (OU ELEMENTS DE COMMANDE) RELIANT LES ELECTRODES E AUX CONDUCTEURS DE COMMANDE C.L'INVENTION EST APPLICABLE A LA REALISATION D'ECRANS DE VISUALISATION A CRISTAL LIQUIDE.
Diode-type control matrix arrays for electrooptical flat-panel screens which find application in liquid-crystal displays are fabricated by depositing a layer of conductive material on a substrate and etching the control electrodes and control leads in this layer. The entire structure is then coated with an undoped amorphous semiconductor layer, with a doped amorphous semiconductor layer, and with a second layer of conductive material. In these three layers are etched terminal areas (or control elements) for connecting the control electrodes to the control leads. |
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Bibliography: | Application Number: FR19850005008 |