A BARRIER DEPOSIT WITHIN A SUBSTRATE

A method for forming a barrier deposit within a substrate comprising defects is disclosed. The method comprises introducing the substrate into a reaction space, wherein: - the substrate contains water and/or is exposed to water, and simultaneously the substrate is exposed to a first chemical, wherei...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author Sneck, Sami
Format Patent
LanguageEnglish
Finnish
Swedish
Published 30.12.2023
Subjects
Online AccessGet full text

Cover

Loading…
More Information
Summary:A method for forming a barrier deposit within a substrate comprising defects is disclosed. The method comprises introducing the substrate into a reaction space, wherein: - the substrate contains water and/or is exposed to water, and simultaneously the substrate is exposed to a first chemical, wherein the first chemical is configured to react with the water; and - the substrate is subjected to a diffusion treatment for allowing the water and the first chemical to diffuse into the defects of the substrate in order to react with each other within the substrate to form a barrier deposit within the substrate clogging the defects in the substrate. Further is disclosed a substrate comprising a barrier deposit within the substrate and the use of the method. Esitetään menetelmä estekerrostuman muodostamiseksi virheitä käsittävän alustan sisään. Menetelmä käsittää alustan viemisen reaktiotilaan, jossa: - alusta sisältää vettä ja/tai saatetaan alttiiksi vedelle, ja samanaikaisesti alusta saatetaan alttiiksi ensimmäiselle kemikaalille, jossa ensimmäinen kemikaali on sovitettu reagoimaan veden kanssa; ja - alusta altistetaan diffuusiokäsittelylle veden ja ensimmäisen kemikaalin sallimiseksi diffundoitua alustan virheisiin, jotta ne reagoivat toistensa kanssa alustan sisällä, alustassa olevat virheet tukkivan estekerrostuman muodostamiseksi alustan sisään. Edelleen esitetään alusta, joka käsittää alustan sisällä olevan estekerrostuman, ja menetelmän käyttö.
Bibliography:Application Number: FI20220005589