COMPOSICIONES PARA EL CUIDADO PERSONAL QUE CONTIENEN POLIMEROS INVERSORES DE EMULSION

Una composición en emulsión para el cuidado personal para la aplicación tópica a la piel que comprende: a) una fase líquida acuosa continua; b) una fase no acuosa; c) una composición polimérica de emulsión inversa tolerante a los electrolitos que comprende: i) un polímero polimerizado a partir de un...

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Main Authors SHAH, PRAVINCHANDRAS, K, AEBISCHER, DAVID, R, MORAN, BRYAN P, CHIARELLI, JOSEPH, A, ROUTT, THOMAS, A
Format Patent
LanguageSpanish
Published 16.03.2006
Edition4
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Summary:Una composición en emulsión para el cuidado personal para la aplicación tópica a la piel que comprende: a) una fase líquida acuosa continua; b) una fase no acuosa; c) una composición polimérica de emulsión inversa tolerante a los electrolitos que comprende: i) un polímero polimerizado a partir de una composición monomérica que comprende (1) al menos un monómero sensible al pH que tiene insaturación etilénica y contiene al menos un radical ácido carboxílico, donde al menos el 50% en peso de dichos monómeros que contienen dicho radical ácido carboxílico están neutralizados; (2) un monómero asociativo complejo representado por la estructura: donde A se selecciona entre un radical divalente representado por ¿C(O)O-, -CH2C(O)O-, -O-, -CH2O-, -NHC(O)O-, -(CH2)mNHC(O)-, -NHC(O)NH-, -C(O)NH-, -C(O)NH(CH2)m- Personal care compositions having excellent shear, shelf and use stability as well as excellent formulation aesthetics (such as skin feel, residue, moisturizing, emolliency, rub-in, absorption and adsorption characteristics, and the like) are made using inverse emulsion polymers having improved electrolyte tolerance and efficiency. The personal care compositions comprise (A) a topically acceptable liquid phase, and (B) at least one electrolyte tolerant inverse emulsion polymer comprising the reaction product of: (1) at least one complex associative monomer having ethylenic unsaturation in an end group, a hydrophilic midsection, and a hydrophobic moiety; (2) at least one pH sensitive monomer having ethylenic unsaturation and at least one carboxylic or sulfonic acid group; (3) an optional copolymerizable non-ionic monomer having ethylenic unsaturation; and (4) at least one crosslinking monomer.
Bibliography:Application Number: ES20020739645T