COMPUESTOS DE 7-ACIL-3-(CARBAMOILOXI SUBSTITUIDO) CEFEM, SU UTILIZACION Y PROCEDIMIENTO PARA SU FABRICACION

• Main Authors: KATSU, KANEMASA, KAMATA, ATSUSHI, KOMATU, YUUKI, YAMANAKA, MOTOSUKE, NEGI, SHIGETO, SUGIYAMA, ISAO
• Format: Patent
• Language: Spanish
• Published: 16.05.2001
• Edition: 4
• Subjects: CHEMISTRY; HETEROCYCLIC COMPOUNDS; HUMAN NECESSITIES; HYGIENE; MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; METALLURGY; ORGANIC CHEMISTRY; PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL, OR TOILET PURPOSES; SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS ORMEDICINAL PREPARATIONS

UN COMPUESTO CEFEM 7-ACIL-3-CARBAMOILOXI REPRESENTADO POR LA SIGUIENTE FORMULA (1): EN LA QUE A SIGNIFICA UN GRUPO -CH= O -N=; R ELEVADO 1 DENOTA UN GRUPO HIDROXIL, ALCOXIL BAJO, ALCOXIL BAJO SUBSTITUIDO CON FLUORINA O HIDROXIL PROTEGIDO; R (AL CUADRADO) Y R ELEVADO 3 SON IGUALES O DIFERENTES E INDIVIDUALMENTE REPRESENTAN UN GRUPO ALQUIL, ALQUIL BAJO SUSTITUIDO CON HIDROXIL, UN GRUPO ALQUIL BAJO CARBAMOIL SUSTITUIDO O ALQUIL BAJO CIANO-SUSTITUIDO, R (AL CUADRADO) ES UN ATOMO DE HIDROGENO Y R ELEVADO 3 ES UN GRUPO ALCOXIL BAJO O ALQUIL OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR UNO O MAS ATOMOS DE HALOGENO, O EL GRUPO SIGNIFICA UN GRUPO HETEROCICLICO DE 4-6 MIEMBROS, QUE CONTIENE UN ATOMO DE HIDROGENO, O UN GRUPO MORFOLINO, SIENDO DICHO GRUPO HETEROCICLICO O MORFOLINO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR UN GRUPO ALQUIL BAJO, ALQUIL BAJO HIDROXIL Y/O HIDROXIL-SUSTITUIDO; R ELEVADO 4 DENOTA UN GRUPO CARBOXIL O CARBOXIL PROTEGIDO; O UNA SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE DEL MISMO; UTILIZACION DE LOS MISMOS ASI COMO UNA COMPOSICION ANTIBACTERIANA QUE CONTIENE EL COMPUESTO CEFEM ANTES MENCIONADO. A compound represented by the following formula (1a): a process for the preparation thereof, an antibacterial composition comprising the same and the use thereof for the preparation of a medicament and for the synthesis of related cephem compounds.